上海工程技术大学服装学院全自动等离子体化学气相沉积设备采购项目招标文件

上海工程技术大学

服装学院全自动等离子体化学气相沉积设备采购项目

招标文件

项目名称：服装学院全自动等离子体化学气相沉积设备采购项目

招标方：上海工程技术大学资保处

2013年10月21日

招标文件

招标项目名称：服装学院全自动等离子体化学气相沉积设备采购项目

发标时间：2013年10月21日星期一

一、 投标邀请

招标方式：

受用户委托和对采购项目的要求，本职能处室对服装学院全自动等离子体化学气相沉积设备采购项目进行公开招标。具体技术要求见附件。

兹邀请合格投标人以密封标书的形式前来投标，标书一式二份，用单独的信封密封，并在信封上标明投标单位及投标项目名称，为确保标书的时效性和可行性，以专人送达为宜。

1． 投标地点：上海工程技术大学资保处物资供应中心（行政楼B108室）

2． 投标截止时间：2013年10月28日16：00，逾期收到或不符合规定的投标文件不予接受。

3． 开标时间和地点：2013年10月下旬，采取公开开、评标，地点：校资保处。

4． 开、评标结果由资保处具体人员通知投标单位。

5． 凡需对本次招标提出咨询的供应商，请在2013年10月28日前与资保处物资供应中心联系。

6． 本招标方地址：上海市龙腾路333号 邮编：201620

7． 联系人：高 丹 电话：********

附：设备技术参数

本仪器的主要技术参数

1. 反应室数量：单室

2. 极限真空：9×10-5Pa（环境湿度≤55%，烘烤除气）

3. 真空漏率：≤1*10-7Pa·L/S

4. 静态升压率：停泵关机12小时，真空度≤6.67Pa。（烘烤除气后）

5. 沉积材料：SiO2、Si3N4、非晶硅、多晶硅、微晶硅等薄膜。

6. 淀积不均匀性：≤±5％（φ4吋范围内）

7. 沉积室规格：φ350×220mm

8. 最大样片尺寸：φ150mm（6吋）

9. 样品加热温度： 室温～400℃（以硅片为准）

本仪器的技术特性

1. 设备通过物理、化学相结合的方法，主要用于在硅、石英、柔性材料等不同衬底材料上沉积二氧化硅、氮化硅、非晶硅、多晶硅、微晶硅、类金刚石等薄膜，沉积的薄膜具有良好的均匀性、粘附性、绝缘性等。

2. 设备为单室高真空系统，主要由真空系统、电极及升降系统、匀气系统、气路系统、电气系统、射频电源系统、自动控制系统、加热系统、冷却系统、报警系统等组成。

3. 本设备通过一台分子泵及一套罗茨泵机组组成抽气系统, 将真空室抽至高真空,分子泵与真空室之间装有一个气动插板阀, 罗茨泵旁抽管路上装有压力调节阀进行罗茨泵维持真空的压力调节，机械泵机组为真空室预抽泵及分子泵、罗茨泵机组的前级泵。直联旋片式真空泵、罗茨泵与真空室之间及与分子泵之间均采用不锈钢硬管及波纹管连接, 并装有电磁气动隔断阀。

4. 本设备配有基于罗茨泵及机械泵抽气的双通道下游恒压控制系统，通过薄膜规测量，调节阀控制调节，使真空室达到恒压,提高工艺稳定性。

5. 功率源采用RF500W射频电源，带有自动匹配器。可实现自动化控制。

6. 下电极（工作台）可移动。移动范围为距离上电极（匀气板）2～6cm范围内，移动在开启腔体情况下手动进行。

7. 气路系统采用3台质量流量控制器控制5路气体进气。气体管路采用1/4英寸不锈钢硬管，管路接头连接形式采用双卡套连接。

8. 自动控制系统采用PLC及工控机控制、液晶显示屏及鼠标键盘操作，实现真空系统及工艺过程自动化。用户可选择全自动及非全自动控制模式。

9. 本设备设有安全保护及报警系统。