磁控溅射镀膜机（ZBZXJJ20210541）采购公告
磁控溅射镀膜机（ZBZXJJ20210541）采购公告
| 项目名称 | 磁控溅射镀膜机 | 项目编号 | ZBZXJJ******** |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 163*****73000 | 公告截止日期 | 163*****00000 |
| 采购单位 | 四川大学 | 付款方式 | 进口设备：甲方与所委托的进口代理公司签订代理进口委托协议后，将进口项目货款支付给代理公司指定的银行账户，项目货款仅用于本进口项目的信用证或TT付汇及进口相关费用等。进口代理公司收到甲方合同货款后，按外贸合同要求及时履行与乙方委托的境外代理公司的付款义务。国产设备：甲方应在完成验收并建立固定资产后向乙方一次性支付本合同的总款项，乙方须向甲方出具合法有效完整的完税发票及凭证资料进行支付结算。 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 无 | 到货时间要求 | 成交后90个工作日内 |
| 预 算 | 495000.0 | ||
| 收货地址 | 四川大学望江校区一环路南一段24号 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 磁控溅射镀膜机 | 1 | 台 | 机电设备 |
| 品牌 | 创世威纳 |
|---|---|
| 型号 | MSP-400BI |
| 品牌2 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 品牌3 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 预算 | 495000.0 |
| 技术参数及配置要求 | 一、设备主要技术指标1.1腔体尺寸：Φ500mm*H420mm1.2极限真空度：≤6.7×10-5 Pa；1.3系统漏率：5*10-7Pa.l/s；1.4静态升压：系统停泵关机后12小时后，真空度≤5Pa1.5系统充干燥N2解除真空，短时暴露大气后抽气至9*10-4Pa≤30min。1.6磁控靶配置：带角度调节Φ60mm磁控靶3只。角度调节精度：1°，溅射距离调节范围：8-12cm。1.7离子源配置：带角度调节Φ6cm考夫曼离子源1只★1.8工位数与样品数量：6+1工位，7片（无需更换工件盘）？倾斜靶共溅射方式镀膜，中心共溅射单工位Φ4英寸样品1片。？垂直靶方式镀膜，环带垂直溅射6工位Φ2英寸样品6片。★1.9溅射不均匀性≤±5％（垂直溅射，Φ1.5英寸范围内；倾斜溅射：Φ3英寸范围内）★1.10样品加热（无需更换工件盘）？中心共溅射工位加热≥600℃；控温精度：1℃；温度均匀性：±1%？环带垂直溅射工位加热≥400℃；控温精度：1℃；温度均匀性：±1%1.11工艺气体：Ar、O2/N21.12电源功率？射频500W，自动匹配。？直流：1000W1.13自动压力控制系统：包含。1.14控制方式：基于PLC及工控机的全自动、半自动控制方式。1.15包含安全报警系统。1.二、设备主要配置1.1真空腔体、样品架系统、机柜机架、辅助设施，1套1.2分子泵1台，抽速600L/s1.3直连旋片式真空泵1台，抽速8L/s1.4超高真空电动调节插板阀1台，Φ150mm1.5真空测量系统1套1.6自动压力控制系统1套，含进口皮拉尼真空计（日本真空）。1.7磁控靶3只，Φ60mm★1.8考夫曼离子源及自动电源系统1套，6cm。★1.9加热器及温控系统4套：400℃*3套+600℃*1套。1.10射频电源及自动匹配器：500W，1套1.11直流电源：1000W，1套，1分2直流自动切换器1台。1.12质量流量控制器：2台1.13工艺气路：3条1.14自动控制系统1套。PLC及模块、工控机、显示器 |
| 售后服务 | 服务年限:36月;服务网点:当地;电话支持:7x24小时;服务时限:报修后24小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年; |
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