原子层沉积系统(GY202108663)采购公告

原子层沉积系统(GY202108663)采购公告

项目名称原子层沉积系统项目编号GY********3
公告开始日期163*****90000公告截止日期163*****00000
采购单位山东大学付款方式货到验收合格后付款
联系人中标后在我参与的项目中查看联系电话中标后在我参与的项目中查看
签约时间要求到货时间要求签订合同后30天内
预 算495000.0
收货地址山东大学
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购商品采购数量计量单位所属分类
原子层沉积系统1其他特种设备
品牌迈纳德、谱友、耸高
型号MNT-S100Oz-L5S1
品牌2
型号
品牌3
型号
预算495000.0
技术参数及配置要求1 原子层沉积系统设备1套★代表关键指标,不满足指标将导致被拒绝2 设备主机规格2.1 机柜主体采用铝型材可移动框架,门板采用不锈钢拉丝,面板为不锈钢镜面2.2 主控系统为PLC,采用PID温度控制方式 2.3 设备本底真空为0.67 Pa2.4 设备漏率≤ 5×10-10 Pa·m3/s3 反应腔★3.1 反应腔:材质为316L,整块材料加工,无焊接,包含1个Swagelok标准1/2” FVCR接口,1个NW25接口,腔室高度不低于18 mm,漏率≤ 5×10-10 Pa·m3/s;3.2 样品台尺寸φ100mm ,标准4英寸腔体。3.3 开启方式:通过界面操作自动充气,配备压差计以及开腔指示灯。3.4 腔体温度:腔室为立体式加热方式,包括2个独立的加热装置,对反应腔室进行全方位加热,最高可达400 oC,控制精度为±1 oC; 4 前驱体源输送系统4.1 配备6路金属前驱体源输送管路,常温源1路,加热源4路,载气辅助源1路,配备载气管路和质量流量控制器,每路常温和加热源配备带吹扫和加热的ALD专用阀门(品牌Swagelok)、手动阀和50 mL高流量前驱体容器,每路载气辅助源配备配备带吹扫和加热的ALD专用阀门(品牌Swagelok)、载气脉冲ALD阀门、手动阀和100 mL前驱体容器;4.2 ALD专用阀门(品牌Swagelok)为自带吹扫功能的三孔阀,响应时间小于5 ms,采用耐高温执行器,耐温高达200 oC,阀体材料为超高纯应用场合的316L VIM-VAR不锈钢,隔膜材料为高强度和耐腐蚀的钴基超级合金。阀体内置直径为1/8”加热器,外包定制柔性保温套,最高加热温度可达200℃,温度控制精度满足±1℃4.3 管路及接头均采用316 EP级电解抛光不锈钢材料,所有气体管路连接处采用金属VCR密封;载气管路采用N2或者Ar气体,通过质量流量控制器控制(品牌为Horiba,量程为200 sccm);配备惰性气体自清洗系统,在控制界面中可以设置自动清洗的次数;★5 臭氧源系统5.1配备臭氧发生器、臭氧破坏器、控制臭氧的质量流量控制器;5.2臭氧发生器产量10 g/h,浓度不低于80 g/m;5.3臭氧发生器采用风冷方式无需配备冷却水, 尺寸不大于 510*510*210 mm;6真空系统:6.1真空泵采用防腐真空泵,抽速不低于14 m3/h,本底真空5*10-3Torr★6.2真空测量:配备进口压力传感器,检测范围:1000-2.3*10-4 Torr。6.3真空抽气管道可以烘烤至150℃,且真空泵前级配置热阱,加热温度300℃,控制精度±1℃;★7 控制系统7.1可编辑配方,可对工艺参数沉积温度、阀门编号、前驱体源脉冲时间、清洗时间、流量进行编辑、保存以及导入配方;7.2实时展示阀门开关状态、腔室压力状态、配方进展、薄膜沉积剩余时间;7.3所有ALD阀门具备自动排空功能,所有管路具备自动清洗功能; 含独立的高级设置界面,可对各个温度进行PID调试、编辑前驱体源标签、查看前驱体源使用循环次数;8 验收指标:厂家须提供氧化铝薄膜的标准工艺配方,前驱体为三甲基铝+水,按以下内容进行现场制备与验收:薄膜均匀性:在4英寸晶圆上沉积约50nm厚氧化铝,以晶圆上5个均匀分散点(上、下、左、右、中心5点,每两点间距不小于15毫米)进行椭偏仪测试膜厚,4英寸晶圆上薄膜均匀性≤ 1%。9 其他伴随服务1)提供备用配件一套(含腔体密封圈、垫片等耗材)、使用手册、说明书、维修手册,标准工艺手册等各1套。2)质保期1年,软件终身免费升级。3)设备生产过程符合ISO9001质量管路体系认证要求。
售后服务服务网点:外地;质保期限:1年;响应期限:报修后8小时;

报价地址:https://www.yuncaitong.cn/publish/2021/12/02/20KWONYJTMJM94MR.shtml

联系人:郝工
电话:010-68960698
邮箱:1049263697@qq.com

标签: 沉积系统 原子层

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