根据国家采购与招投标法律法规的有关规定，武汉大学对电子束蒸发设备进行公开招标，欢迎具备相应资质和实力的供应商参加投标。现将有关事项公告如下：
一、招标范围：电子束蒸发设备
（主要技术指标：见附件）
二、供应商资格要求
投标人必须是中国境内注册的独立法人,不能是法人联合体。
三、获取招标文件的时间、地点
1、获取招标文件时间： 2014年3月19日至 2014 年4月2日上午9:00－11:00,下午2:30－4:30(北京时间,节假日除外)； 外地可信箱my_foot@163.com报各
2、获取招标文件地点：武汉大学采购与招投标管理中心 405 室；
四、投标截止时间、开标时间及地点
1、递交投标文件时间： 2014年4月3 日上午8.30。
2、投标截止及开标时间：2014年4月3日 上午9.00。
3、投标、开标地点：武汉大学采购与招投标管理中心
五、采购人、联系人、技术负责人等。
采购人名称：武汉大学
采购联系人： 张伟 许志强 联系电话：******** ********
采购项目技术负责人：刘传胜 联系电话：189*****093

附件 电子束蒸发
一 设备技术要求：
可以用于镀半导体、金属膜，氧化物、纳米级单层及多层功能膜。
1、真空室：
1.1、真空室内腔尺寸：Φ400mm；
1.2、真空室材料：采用 SUS304 不锈钢材料制造，内、外表面抛光处理；
1.3、真空室结构：真空室四周配有不锈钢防污染屏蔽板；正面设有可开启门（门上配有观察窗和防污挡板），便于放料和装载样品；
1.4、观察窗：Φ100mm观察窗2个，观察窗内有遮挡活动板，配有防辐射射玻璃；
1.5、CF35陶瓷封接引线法兰：2个（照明及内烘烤引线1个、预留空置4芯电极法兰1个）；
1.6、配备水冷样品座，样品座高度可调，便于调整蒸距。
1.7、膜厚仪一套
2 电子束蒸发源：
2.1、4工位水冷电子枪；
2.2、电子枪功率0--6KW可调；
2.3、电子枪阳极电压：6kV、8 kV；两挡
2.4、电子束可二维扫描调节，最大扫描正负>10mm（X，Y）；
2.5、四工位水冷式电动坩埚；容积11-22ml
2.6、可调角度电动控制蒸发挡板一套；
2.7、电子枪坩埚传动可电动亦可手动；
2.8、带有高压灭弧自动复位功能。

3、真空抽气系统
3.1、可达8.0×10-5Pa，真空漏率≤10-7Pa.l/s，真空室从大气到抽到≤9.0×10-4Pa，小于40min。
3.2系统漏率：系统停泵关机12小时后，真空室的真空度≤10Pa。

4、真空测量系统：
复合数显真空计（两低一高）
5、水冷系统
配备水冷循环系统：满足设备需求

数量1套