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上海理工大学理学院拟购置电子束蒸发镀膜系统一台，现网上公开采购信息，欢迎投标！

一、设备技术要求：

设备主要用于量子器件微加工，要满足以下功能。

1.1系统真空：

1.1.1 真空室极限真空度≤6E-5Pa

1.1.2 恢复工作时间：真空室内测量的工作压力从1E5Pa至8E-4Pa≤40min

1.1.3 真空漏率：保压12小时，真空≤1Pa；

1.2真空系统控制：

1.2.1 配置数显复合真空计显示高低真空数值；

1.2.2 操作系统实现互锁保护，分子泵有断水、断相报警功能；

1.3 蒸发源：

1.3.1 电子枪：e型磁偏转270°电子枪，单枪单电源，功率：8KW；加速电压：6kv、10kv两档可切换，束流：0～0.6A可调，Y方向偏转，X、Y方向扫描，配手持控制盒；四穴坩埚，每个容积20ml，电动换位，面板有位置显示。

1.3.2 电阻热蒸发：功率2.5kw，2组水冷电极（交替蒸发），配手持控制盒；

1.4 配石英晶振膜厚仪（含一个水冷探头）；

1.5 工件台、烘烤：

1.5.1 真空室工作尺寸：500x500x680（宽x深x高）mm，全不锈钢箱体，配有防污染不锈钢屏蔽板；真空室门上有一个观察窗，可观察电子枪工作状态，配用暗色玻璃，符合X射线防护国家标准。

1.5.2 工件盘直径Φ400，转速连续可调。

1.5.3 工件盘可加热，数显温控仪控温，最高温度800℃

二、主要技术性能指标

2.1系统结构原理

该系统为单真空室配置，真空室尺寸500×500×680mm（根据设计需要适当调整），腔体采用304不锈钢加工而成，内表面抛光，外表面喷丸处理。采用U 型箱体活开门结构，壁挂防污板，抽气口后置，门上配备玻璃观察窗（含防污染挡板），观察窗由三层玻璃组合而成，第一层为保护玻璃，脏时可随时取下清洗，装卡方便；第二层为硬质玻璃，起到密封作用；第三层铅玻璃防止射线对人身产生危害，外面安装防强光保护玻璃，方便观察电阻蒸发时的工作情况。考虑到系统拓展需要，预留所需法兰接口。

电子枪及水冷蒸发电极安装在真空底板上。采用磁流体密封，电子枪选用功率为8KW、四工位水冷坩埚E型电子枪。

基片架通过齿轮来传动，转速连续可调，加热盘和加热盘可以轴向移动，方便工件装夹的同时实现蒸距250-350 mm可调，工件盘直径为Φ400mm。工件盘在步进电机以及磁流体带动下可连续回转，转速连续可调（步进电机控制）。效果图如下所示：

此外工件盘直径为Φ400mm的基片架必须可全部均匀加热，最高加热温度：800±1℃，铠装电热丝加热，由热电偶闭环反馈控制（日本导电温控仪PID控制）。

2.2 真空获得原理

真空获得系统采用分子泵+机械泵机组来实现：利用FF200-1200C(科仪）复合分子泵作为主泵，机械旋片泵作为预抽+前级泵对真空室抽气（见图2）。

图1气路原理图

真空度控制通过和主泵相连的插板阀来实现，各种阀门均采用超高真空阀门辅以金属密封。

三、沉积系统

3.1电子枪

设备配套电子枪的要求：
1）与焦耳电子枪性能相当。

2）能量分布均匀，束斑小，垂直入射，电子枪不挖坑，基本上平面整体蒸发，光斑直径￠5-￠25可调，扫描方式方形、圆环、圆面可设，并可记忆16位坩埚扫描频率、幅度大小、扫描方式及斑点位置。对操作者依赖性减少，使产品的重复性得到比较大的改善。

3） X Y频率高，能高速扫描，10---250HZ。

4）各单元为分体式方便维修和检查。

扫描电源要求：
1）采用先进技术智能手操器，通过串行总线I2C与扫描主机连接，运行须安全可靠；能控制束斑束流 坩埚 挡板等。

2）能与计算机通讯，并有RS232（或RS485）通讯接口，对镀膜设备实现自动控制起到重要作用。

3）束斑位置记忆，在人工模式下能对束斑位置及大小，频率 波形模式 16位坩埚记忆功能。

4）环行面积密度可选择1---20条，X方向的上下电流可设置，从而保护光斑不打到坩埚上面。

5）偏磁方式：改进型永久磁铁减少扎坑现象，可以使电子束以垂直角度入射蒸镀膜料，及增加蒸发膜料的使用面积，并使膜料更加均匀的蒸发。

高压要求：
1）单独的高压柜，采用日本焦耳电源控制方式，保证安全可靠。

2）电源仪器可用于50HZ 60HZ的电源；采用移相触发器控制方式，适用于阻性 感性负载，变压器一侧。

3）控制装置有过流 过热 SCR保护功能，具有软启动 软关断功能，减少对电网的冲击干扰。

4） 高压具有恒流恒压功能，在空载与加负载时功率不变，对镀膜起非常重要作用。

3.2 水冷电极

设备采用2对水冷式蒸发电极，电极结构示意图如下所示：

3.3 预留接口

为拓展真空室功能，可以按照使用方的要求预留各种接口法兰。

四、复合镀膜系统主要参数要求

4.1 极限真空为6*10-5Pa，短暂暴露大气候40分钟内可抽到8*10-4Pa；保压时间为12小时后优于5Pa。

4.2 真空室尺寸500×500×680mm，腔体采用优质304不锈钢加工而成，配有防污染不锈钢屏蔽板，U 型箱体活开门。

4.3 工件盘直径为Φ400；基片最高可加热温度为800±1℃,可连续回转，转速连续可调，蒸距250-350mm可调。

4.4配数显复合真空计显示高低真空数值，操作系统实现互锁保护，分子泵有断水断相报警功能。

4.5电阻蒸发：2对水冷蒸发电极交替蒸发，功率2.5kw，1套控制电源，可相互切换，配有手持控制盒。

4.6 电子枪：e型磁偏转270°电子枪，单枪单电源，功率：8KW；加速电压：6kv、10kv两档可切换，束流：0～0.6A可调，Y方向偏转，X、Y方向扫描，配手持控制盒；四穴坩埚，每个容积20ml，电动换位，面板有位置显示。

4.7 抽气系统：采用中科科仪FF200-1200C复合分子泵、RVP2036机械泵以及阀门组成真空抽气系统，

五、多功能系统主要配置

根据上述技术要求，系统实际配置如下。

表一、多功能系统配置及报价表

六、培训

5.1 培训时间：1周，人数： 3-5人；

5.2 培训内容：

1） 了解多功能系统的工作原理、组成及各组成部分的使用方法；

2） 熟练掌握整机系统及各零部件的操作使用方法；

3） 了解并掌握设备一般故障的诊断方法，并能进行日常维护。

七、设备相关技术资料

1) 设备操作、维护手册（1本）；

2) 全套外购部件的使用、维护说明书（1套）；

3) 设备结构原理图及关键部件结构图（1套）；

4) 电控系统原理图（1套）；

5) 装箱单（1套）；

6) 合格检验证明（一套）。

八、其他

技术负责人：王老师 电话：137*****830

投标截止时间：2014年6月23日上午11:00（标书请密封盖章并注明标号）

标书请寄：上海市军工路516号上海理工大学公共服务中心102室设备科(200093)

联系电话（传真）：********

联 系 人：缪老师

上海理工大学设备招标领导小组

2014年6月16日