原子层沉积设备（HITBX-2022000013）采购公告

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原子层沉积设备（HITBX-2022000013）采购公告

预算单价￥******.00
技术参数及配置要求1.腔室：独立的内外双腔结构，真空漏率＜5×10-7 Pa·L/S；
2.外腔：真空加热腔，对整个内腔进行加热，外层设置有水冷循环装置；内侧设有多层热反射装置，提高内腔升温效率，外腔设置有维护口，方便打开维护；
3.内腔：可拆卸内反应腔，负责工艺执行。需要维护时，可直接将整个内腔取下更换维护。压差自压合机构可使内腔腔盖与内腔腔体自动压合密封；
4.内腔最大可放置直径8英寸晶圆，内腔高度25mm，标配两套内腔，铝、不锈钢各一套；
5.反应温度：最高500℃（低温内腔250℃），温度控制精度±1℃；
6.标准加热液态前驱体源3路，配置swagelok高温快速ALD阀（响应时间＜10ms）、手动阀、50ml不锈钢源瓶，源瓶及管路加热温度RT-200℃，控制精度±1℃；1路常温源，配置swagelok快速ALD阀（响应时间＜10ms）、手动阀、50ml不锈钢源瓶；两路载气系统，全套swagelok管路+VCR密封，前驱体源管路具有在线清洗功能，预留1路臭氧接口；
7.高性能真空系统，整机极限真空＜5×10-3Torr，真空漏率＜5×10-7 Pa·L/S，配置高性能防腐油泵，额定抽速＞30 m3/h，真空泵前级配置热阱，加热温度最高500℃，控制精度±1℃，用于吸附、分解未反应的前驱体源；配置.进口压力传感器（真空计），含一个工艺薄膜规和一套全量程真空规；真空计前设有保护真空计的高效过滤网以及气动隔膜阀；
8.高精度PLC+工控机沉积自动控制系统，满足高精度ALD沉积需求；可视化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数，编辑并保存配方参数；多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保安全性；沉积模式：连续模式、停流模式；人机界面：外挂式触摸屏，可自由选择悬停位置；
9. 用电：380V/10kW，至少20A空气开关
10.验收标准工艺：在 8英寸晶圆上沉积 500 循环氧化铝，以晶圆上至少 5 个均匀分散点（上、下、左、右、中心 5 点，每两点间距不小于 15 毫米）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±1%为合格；
验收快速沉积工艺：8英寸晶圆沉积氧化铝，最快单cycle时间＜8秒；
售后服务服务网点:当地 ; 电 话 支 持 :7x24 小时;质 保 期 :1年; 服务时限:报修 后 12 小时;销售 资质:协议供货 商;商品承诺: 原厂全新未拆封 正品;

哈尔滨工业大学招标与采购管理中心

2022-06-06

报价网址：https://sell.yuncaitong.cn/#/enquiry/20L42CP9ID5LC6D8/bid


联系人：郝工
电话：010-68960698
邮箱：1049263697@qq.com

标签: 原子层沉积设 IT

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