TALD-150R原子层沉积机（JJ20220664）采购公告

招 标 正 文
 

TALD-150R原子层沉积机（JJ20220664）采购公告

项目名称TALD-150R原子层沉积机项目编号JJ********
公告开始日期165*****07000公告截止日期165*****00000
采购单位重庆大学付款方式货到付款
联系人中标后在我参与的项目中查看联系电话中标后在我参与的项目中查看
签约时间要求无到货时间要求合同签订120个工作日内
预 算无
收货地址重庆大学虎溪校区第一实验楼量子实验室1楼
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购商品采购数量计量单位所属分类
原子层沉积机1套电工器材
品牌嘉兴科民电子
型号TALD-150R
品牌2无
型号无
品牌3无
型号无
预算无
技术参数及配置要求1.腔室与样品台参数：水平流单腔腔室，腔盖有保温隔热套；样品台:需配有可拆卸片托，可放晶圆尺寸不小于6英寸；反应温度：最高温度不低于400℃，温度控制精度不高于±1℃；2.源参数：至少配备3路加热液态前驱体源，配置高温快速ALD阀，响应时间＜10ms；配置手动阀、不锈钢源瓶，源瓶体积不小于50ml；源瓶及管路加热温度范围不小于室温-200℃，控制精度不高于±1℃；至少配置常温源1路，配置快速ALD阀，响应时间＜10ms；配置手动阀、不锈钢源瓶，源瓶体积不小于50ml；3.气路参数：至少含两路载气系统，全套管路，VCR密封，且前驱体源管路具有在线清洗功能；需预留臭氧接口；4.真空系统：整机极限真空不高于5E-3Torr，真空漏率不高于5E-7 Pa·L/S；真空泵：额定抽速不低于16m3/h，泵前配置有截止阀；真空泵前级配置热阱，加热温度不低于500℃，控制精度不大于±1℃；真空计：真空计前设有高效过滤网以及气动隔膜阀；5.控制系统：自动控制系统，满足高精度ALD沉积需求；可视化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数，编辑并保存配方参数；多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保安全性；沉积模式至少包括连续模式、停流模式；6.工艺参数.:需满足如下工艺要求为达标，未达标视为不满足此条，试样需提供招标方与第三方验证后有效：（1）在 6 英寸晶圆上以厂家提供的工艺配方沉积 300 循环氧化铝，以晶圆上至少 5 个均匀分散点（上、下、左、右、中心 5 点，每两点间距不小于 15 毫米）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±1%为达标；（2）在 6英寸晶圆上以厂家提供的工艺配方沉积 300 循环氧化铪，以晶圆上至少 5 个均匀分散点（上、下、左、右、中心 5 点，每两点间距不小于 15 毫米）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±1.5%为达标；
售后服务电话支持:7x24小时;质保期限:1年;响应时间:12小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;发票类型:增值税专用发票;质保金:无;

报价地址：https://www.yuncaitong.cn/publish/2022/06/13/20L4CIPXOAWNQCOJ.shtml

标签: 原子层沉积 TA

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