原子层沉积系统反应和真空系统-技术参数（JJ20220781）采购公告
原子层沉积系统反应和真空系统-技术参数（JJ20220781）采购公告
| 项目名称 | 原子层沉积系统反应和真空系统-技术参数 | 项目编号 | JJ******** |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 165*****54000 | 公告截止日期 | 165*****00000 |
| 采购单位 | 重庆大学 | 付款方式 | 货到付款 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 无 | 到货时间要求 | 合同签订120个工作日内 |
| 预 算 | 无 | ||
| 收货地址 | 重庆大学虎溪校区第一实验楼量子实验室1楼 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 原子层沉积系统反应和真空系统-技术参数 | 1 | 台 | 其他仪器 |
| 品牌 | kemicro |
|---|---|
| 型号 | TALD-150R |
| 品牌2 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 品牌3 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 预算 | 无 |
| 技术参数及配置要求 | 1.腔室与样品台：用于原子层沉积（ALD）的水平流单腔腔室，腔盖有保温隔热套；.样品台配有可拆卸片托，可放下晶圆尺寸不小于6英寸；反应温度：最高400℃，温度控制精度±1℃；2.真空系统：整机极限真空＜5E-3Torr，真空漏率＜5E-7 Pa·L/S；额定抽速＞16m3/h，泵前配置有截止阀；真空泵前级需配置热阱，用于吸附、分解未反应的前驱体源，加热温度不低于500℃，控制精度不大于±1℃；真空计前需有过滤网以及气动隔膜阀；3.控制系统：配备自动控制系统，满足高精度ALD沉积需求；需配备可视化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数，编辑并保存配方参数；多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保安全性；4.沉积模式：至少需配备连续模式、停流模式；5.验收工艺：在 6英寸晶圆上以厂家提供的工艺配方沉积 300 循环氧化铪，以晶圆上至少 5 个均匀分散点（上、下、左、右、中心 5 点，每两点间距不小于 15 毫米）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±1.5%为合格； |
| 售后服务 | 电话支持:5x24小时;质保期限:1年;响应时间:8小时;发票类型:增值税专用发票;质保金:无; |
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