磁控溅射成膜机国际招标公告(1)-0730-224011020007/51
磁控溅射成膜机国际招标公告(1)-0730-224011020007/51
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 磁控溅射成膜机 | 3台 | (1)本装置用于G6 LTPS/LTPO(OLED)制程,进行物理气相沉积工艺。(2基板尺寸:1500mm(宽)*1850mm(长);基板厚度:0.4~0.7mm。(3)设备类型:枚叶式;设备可用于生产MO、TI/AL/TI、ITO/AG/ITO; | 0730-224*****0007/51 |
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