低温磁控溅射成膜机国际招标公告(2)-0730-224011020007/50
低温磁控溅射成膜机国际招标公告(2)-0730-224011020007/50
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 低温磁控溅射成膜机 | 3台 | (1)本装置用于G6 LTPS(OLED)制程,利用物理气相沉积工艺用于形成触摸屏金属层(PVD Metal TP layer)。(2)Half玻璃基板厚度:0.4t~0.7t(3)双Half玻璃基板间距:20mm | 0730-224*****0007/50 |
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