无掩膜光刻机(又名:无掩膜激光直写系统)

无掩膜光刻机(又名:无掩膜激光直写系统)

中山大学化学学院无掩膜光刻机采购项目

基本信息

项目编号 中大招(货)[2022]343号
项目名称 中山大学化学学院无掩膜光刻机采购项目
项目类型 货物采购 申购主题 无掩膜光刻机(又名: 无掩膜激光直写系统) 采购单位 中山大学
项目预算 *** 采购开始时间 2022-08-26 17:33 采购结束时间 2022-09-02 16:00 是否送货
期望收货时间 合同签订后60天交货 经办人 王老师 经办人电话 ********-808
送货地址 中山大学广州校区东校园化材楼
电子签章 本项目需要使用CA签字 CA操作手册下载
备注 1、国内供货请报含税人民币价;境外供货(进口)请报免税人民币价或外币价,报免税人民币价的公司必须有境外人民币收款账户。 2、进口货物中如有国内供货部分,供应商在报价时应分别报价,境外供货部分、国内供货部分的币种选择见第1条,并分别签订进口货物购销协议和国内采购合同;外贸代理费由供应商支付。3、本项目学校不收取任何费用。4、若产生加征关税由供应商负责。5、“★”标注的技术参数为废标条款。 6、本项目采用数字证书,请供应商根据指引(http://bidding.sysu.edu.cn/article/4902)提前办理CA证书 。

设备列表

采购设备数量参考品牌详细响应要求
无掩膜光刻机(又名: 无掩膜激光直写系统)1台 详情请进入系统查看
"无掩膜光刻机(又名: 无掩膜激光直写系统)"技术要求
序号技术要求内容评分等级是否需要附件说明
1 1、主机参数:1、*LD或LED激光:405nm, 功率不低于3000 mW,24小时内光源功率稳定性优于5%,可靠工作时间高于8000小时,最小光斑小于0.5um@0.5um以下胶厚。 重要
2 2、*激光直写线宽:最小线宽确保值1um@1um以下胶厚,线宽均匀性优于±10%。提供实际加工样品,封样作为验收评判参照。 重要
3 3、▲ 激光直写曝光模式:飞行扫描模式。 非常重要
4 4、▲二维平移样品台:工作幅面不小于100mm * 100mm,XY轴定位分辨率优于40nm,XY轴重复定位精度优于±150nm,真空吸附固定样品。 非常重要
5 5、*最大直写速度:不小于30mm2/min@1um分辨率。验收时,采用用户提供的图案(幅面50mm*50mm)加工涂有AZ5214E的硅片,实际直写速度作为评判参照。 重要
6 6、▲对焦光路:CCD动态自动对焦,行程不小于15mm,分辨率优于100nm,Z轴自动对焦精度优于300nm,跟随速度优于2mm/s,具有动态焦深控制能力 非常重要
7 7、空间光调制器SLM:DMD,像素单元不低于1024 * 768@13.68um/10.8um,最高刷新频率 > 10KHz。 重要
8 8、▲ 直写加工拼接误差:小于200nm,提供实际加工样品,封样作为验收评判参照。 非常重要
9 9、▲特殊直写曝光效果:具有立体浮雕图形和数字全息光刻功能,提供实际加工样品,封样作为验收评判参照。 非常重要
10 10、高精度重定位功能:支持CCD读取标靶定位,具有套刻功能。 重要
11 11、灰度直写曝光:最小台阶宽度小于2um,支持最大512台阶。;2、附件参数:无;3、软件及其功能:加工控制软件:运动控制+图像下载。光刻图形处理:支持图形格式GDSII、DXF(CAD)、BMP。提供软件源码和技术开发支持。具有立体浮雕图形和数字全息光刻功能;数据文档格式:DXF , GDSII , BMP(单色/256 灰度)。 重要


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标签: 激光直写 光刻机

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