原子层沉积系统

原子层沉积系统

中山大学电子与信息工程学院(微电子学院)原子层沉积系统采购项目

基本信息

项目编号 中大招(货)[2022]366号
项目名称 中山大学电子与信息工程学院(微电子学院)原子层沉积系统采购项目
项目类型 货物采购 申购主题 原子层沉积系统 采购单位 中山大学
项目预算 *** 采购开始时间 2022-08-31 17:58 采购结束时间 2022-09-06 09:00 是否送货
期望收货时间 合同签订后90天交货 经办人 黎老师 经办人电话 020-********-809
送货地址 广东省广州市番禺区小谷围中山大学大学城校区纳米楼
电子签章 本项目需要使用CA签字 CA操作手册下载
备注 1、国内供货请报含税人民币价;境外供货(进口)请报免税人民币价或外币价,报免税人民币价的公司必须有境外人民币收款账户。2、进口货物中如有国内供货部分,供应商在报价时应分别报价,境外供货部分、国内供货部分的币种选择见第1条,并分别签订进口货物购销协议和国内采购合同。3、本项目学校不收取任何费用。

设备列表

采购设备数量参考品牌详细响应要求
原子层沉积系统1台 详情请进入系统查看
"原子层沉积系统"技术要求
序号技术要求内容评分等级是否需要附件说明
1 样品双腔腔体小于6英寸,样品台加热温度室温至500℃可控,控制精度小于等于1℃ 重要
2 设备最低本底真空小于等于1 Pa,腔体漏率小于等于5×10 -10 Pa·m3/s,12小时后真空保持在100 Pa以下。 非常重要
3 氧源输送管路与金属前驱体源输送管路单独进入反应腔体,减少薄膜在前驱体输送管路内的污染。钢瓶的容积为50mL,隔膜手动阀耐温大于等于120℃。 重要
4 配备5路金属前驱体源输送管路,加热源4路,载气辅助源1路,配备载气管路和质量流量控制器; 重要
5 金属前驱体源输送管路均包裹在加热套中,最高加热温度大于等于250℃。配置温度传感器,温度控制精度满足小于等于±1℃; 重要
6 每路管路配备ALD 专用阀门,为自带吹扫功能的三孔阀,响应时间小于5ms,采用耐高温执行器,耐温大于等于195℃,阀体材料为不锈钢,隔膜材料为高强度和耐腐蚀的超级合金。阀体内置直径为 1/8加热器,外包定制柔性保温套,最高加热温度大于等于195℃,温度控制精度满足小于等于±1℃; 非常重要
7 每路加热源输送管路,配备1个ALD 专用阀门、1套加热源容器以及加热保温系统,加热源容器包括 1个50ml钢瓶和 1个手动阀,波纹管手动阀耐温大于等于295℃。加热源容器定制柔性加热保温套,最高加热温度大于等于240℃,温度控制精度满足小于等于±1℃。 非常重要
8 每路载气辅助源输送管路,配备1个ALD 专用阀门、1套加热源容器以及加热保温系统,加热源容器包括 1个100ml 钢瓶和2个手动阀,手动阀耐温大于等于110℃。 非常重要
9 管路及接头均采用电解抛光不锈钢材料,所有气体管路连接处采用金属VCR密封;载气管路采用 N2或者Ar气体,通过质量流量控制器控制;配备惰性气体自清洗系统,在控制界面中可以设置自动清洗的次数; 重要
10 采用电感耦合等离子体(ICP)发生器,电极与衬底距离大于50 mm; 重要
11 提供 2 路可用于等离子体工艺的气路,包含 ALD 专用隔膜阀和流量控制器;独立进气口,与金属前驱体源、氧源分开; 非常重要
12 采用13.56 MHz射频电源,功率1%-100%可调,配备自动匹配器,匹配时间精度小于等于5秒。 非常重要
13 等离子体系统与控制界面集成,可在界面上查看等离子体入射功率及反射功率的实时动态曲线和历史曲线,便于分析实验数据。 非常重要
14 配备臭氧发生器、臭氧破坏器、控制臭氧的质量流量控制器;臭氧发生器产量大于等于10 g/h,浓度大于等于80 g/m3;臭氧发生器采用风冷方式无需配备冷却水; 非常重要
15 真空泵采用双级油封式真空泵,抽速大于等于80 m3/h; 重要
16 真空测量:配备压力传感器,检测范围:5*10-4~1000 mbar;真空抽气管道可以烘烤至150℃,且真空泵前级配置热阱,加热温度大于等于300℃,控制精度小于等于±1℃; 非常重要
17 验收指标:热型沉积:金属源为四二甲氨基锡(纯度99.999%),氧源为水(18兆欧超纯水),沉积温度150℃,在4英寸晶圆上沉积约50nm厚氧化锡,以晶圆上5个均匀分散点(上、下、左、右、中心5点,每两点间距不小于15毫米)进行椭偏仪测试膜厚, 4英寸晶圆上薄膜均匀性≤±2%。 非常重要
18 验收指标:等离子体辅助沉积:金属源为四二甲氨基锡(纯度99.999%),氧源为等离子体氧气,等离子体功率100-300w,沉积温度150℃,在4英寸晶圆上沉积约50nm厚氧化锡,以晶圆上5个均匀分散点(上、下、左、右、中心5点,每两点间距不小于15毫米)进行椭偏仪测试膜厚, 4英寸晶圆上薄膜均匀性≤±2%。; 非常重要
19 界面操作系统实时展示系统加热状态,可根据工艺要求在配方结束后以及清洗后自动关闭加热系统;界面操作系统实时展示阀门开关状态、腔室压力状态、配方进展、薄膜沉积剩余时间; 重要
20 操作界面可编辑配方,可对工艺参数沉积温度、阀门编号、前驱体源脉冲时间、清洗时间、流量进行编辑、保存以及导入配方;操作界面含独立的高级设置界面,可对各个温度进行调试、编辑前驱体源标签、查看前驱体源使用循环次数;操作界面支持多个配方交替沉积,实现单一和多层薄膜材料的制备; 非常重要
21 软件在该设备上免费升级与安装 重要
22 供应商需要提供相应的仪器使用规范、仪器使用步骤;同时提供及时的售后服务,包括及时的仪器维修、咨询、内部器件购买等服务 重要


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联系人:郝工
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标签: 原子层沉积

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