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高真空多靶磁控溅射镀膜系统

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北京泰科诺高真空磁控溅射设备

JCP500

1. 溅射模式包括：直流溅射、射频溅射、直流及射频反应溅射、单靶溅射、多靶共溅射。溅射不均匀性≤±5%（Φ75mm尺寸范围内）2. 溅射材料：各种金属、合金薄膜、非金属薄膜、化合物等薄膜、粉末材料等。3. 真空室：Ф500×H420mm圆柱腔体；观察窗φ80mm，含磁力挡板；304不锈钢材质，顶板焊水线。4. 真空极限：≦5×10-5 Pa。真空抽速：15分钟内<=10-3Pa5. 基片台：Φ150mm材质不锈钢，基片台气动挡板；转速0～30rpm，且连续可调，带可放置永磁铁的样品托；最高加热温度不低于500 ℃，且连续可调，误差±1°C，日本岛电PID可编程智能温度控制仪，可以设定分段升温速率、保持温度、保持时间。并通过热电偶的反馈信号及加热电源调功调压控制，实现加热温度自动控制；预留腔室环境加热接口。6. 磁控溅射靶：配置Φ75mm标准磁场磁控溅射靶3只，（永磁靶两支、强磁靶一支）。基片中心溅射角度可调，靶与基片距离可调，靶基距调整范围80～110mm，方便调整掌握最佳镀膜距离。可溅射磁性材料，磁性材料厚度2㎜，非磁性材料厚度5㎜。7. 基片台具有偏压清洗功能，最大偏压-1000V。8. 磁控溅射电源：射频电源500w及自动匹配器1套（瑞思杰尔）、1000W直流脉冲电源2台（中山浩源）、直流脉冲偏压电源1台1000w（中山浩源），美国AE公司型号为cesar136、600W的射频电源1套。9. 真空系统：采用“复合分子泵+直联旋片泵+高真空阀门”组合的高真空系统。分子泵选用KYKY的FF-200，抽速速率 1300L/S；机械泵选用北仪优成，TRP-36，抽速：9L/S。数显复合真空计（成都睿宝）：两低一高，含规管测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa10. 工作气路系统：质量流量控制器：Ar、N2、O2 3路；选用七星华创品牌。电磁截止阀：Φ6mm ，七星华创品牌11. 电气控制系统：电气控制系统采用PLC+触摸屏控制，可实现自动一键式抽真空，镀膜电源采用手动控制，以方便用户进行镀膜工艺参数的摸索； ②控制内容：机械泵、前级阀的开与关；分子泵显示及开关控制；真空计参数显示及控制；基片台转速控制等；③安全保护报警系统：在缺水、水压过低情况下的报警系统； 完善的逻辑程序互锁保护系统。12. 设备具备报警及自保护功能。13. 配备水冷机和空气压缩机。

售后服务：①产品质保期为三年，②保期内设备的维修免费（人为损坏因素除外）；③质保期内由于设备本身原因而引起的零配件（易损件除外）的更换，其费用由公司承担； ④建立客户设备信息档案，随时跟踪设备运行及维护，保证设备正常运行；⑤在接到用户要求本公司进行技术支持的正式通知（含电话或邮件通知）后，我公司技术人员于48小时内，赶到技术服务现场；⑥对于质保期以外设备的维护，公司只收取成本费；⑦所有配件、备件质保期外可长期按成本价及时提供。