直流离子束刻蚀系统（JLU-KC22125）采购公告
直流离子束刻蚀系统（JLU-KC22125）采购公告
| 项目名称 | 直流离子束刻蚀系统 | 项目编号 | JLU-KC***** |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 166*****52000 | 公告截止日期 | 166*****00000 |
| 采购单位 | 吉林大学 | 付款方式 | 签订合同后100%预付款，款项以银行转账方式进行支付 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后5个工作日内 | 到货时间要求 | 国内合同签订后180个工作日内 |
| 预 算 | 无 | ||
| 收货地址 | 吉林大学 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 直流离子束刻蚀系统 | 1 | 套 | 其他仪器 |
| 品牌 | 埃德万斯 |
|---|---|
| 型号 | IBE-150 |
| 品牌2 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 品牌3 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 预算 | 无 |
| 技术参数及配置要求 | 主要配置包括：刻蚀腔室、样品台、离子源、真空系统、气路系统、水冷系统、控制系统等。主要技术指标如下：1. 刻蚀腔室：材料为304不锈钢，表面钝化处理；2. 样品台：材料为钛合金，台面尺寸Ф150mm，自转速度0～20rpm，角度0～180°自动调节，精度不低于1°，台面温度5℃～25℃，直接水冷方式；3. 离子源：离子能量0～1000eV连续可调；双栅钼栅网；束流均匀性≤±3%,离子能量稳定度RMS值≤±2%/h，离子束流稳定度RMS值≤±2%/h；4. 真空系统：分子泵+机械泵，系统极限真空度≤8.5×10-5Pa，系统工作本底真空度≤5×10-4Pa，从大气压抽至5×10－4Pa时间≤30分钟；5. 气路系统：工艺气体2路，其中1路是高纯氩气刻蚀工艺气体，1路为普通氮气为工作气体；6. 水冷系统：水冷部位分为刻蚀台、工艺腔、分子泵，离子源共4路，5℃～25℃≥5L/min；≥0.05MPa；7. 控制系统：采用计算机控制，触摸显示屏，可实现真空系统和工艺过程全自动控制。 |
| 售后服务 | 服务网点:当地;电话支持:5x24小时;服务年限:三年;服务时限:报修后48小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年; |
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