大连理工大学大尺寸磁控溅射表面处理仪器采购项目单一来源采购公告

大连理工大学大尺寸磁控溅射表面处理仪器采购项目单一来源采购公告

公告概要:
公告信息:
采购项目名称大连理工大学大尺寸磁控溅射表面处理仪器采购项目
品目

货物/专用设备/专用仪器仪表/教学专用仪器

采购单位大连理工大学
行政区域大连市公告时间2022年11月22日11:03
开标时间2022年11月29日09:30
预算金额¥120.******万元(人民币)
联系人及联系方式:
项目联系人关素婷
项目联系电话0411-********
采购单位大连理工大学
采购单位地址辽宁省大连市高新园区凌工路2号
采购单位联系方式李老师/孙老师;0411-********/********
代理机构名称辽宁宝业工程造价咨询有限公司
代理机构地址大连市西岗区民权街103号
代理机构联系方式关素婷0411-********

  辽宁宝业工程造价咨询有限公司受大连理工大学 委托,根据《中华人民共和国政府采购法》等有关规定,现对大连理工大学大尺寸磁控溅射表面处理仪器采购项目进行其他招标,欢迎合格的供应商前来投标。

项目名称:大连理工大学大尺寸磁控溅射表面处理仪器采购项目

项目编号:DUTASD-*******

项目联系方式:

项目联系人:关素婷

项目联系电话:0411-********

采购单位联系方式:

采购单位:大连理工大学

采购单位地址:辽宁省大连市高新园区凌工路2号

采购单位联系方式:李老师/孙老师;0411-********/********

代理机构联系方式:

代理机构:辽宁宝业工程造价咨询有限公司

代理机构联系人:关素婷0411-********

代理机构地址: 大连市西岗区民权街103号

一、采购项目内容

拟采购货物Diamant-VII-660型号大尺寸磁控溅射表面处理仪器1套,主要由真空室、抽气系统、真空测量系统、操控系统、工艺气体供给系统、工件加热系统、工件驱动及夹具系统、直流脉冲偏压电源、磁控溅射阴极、中频磁控溅射电源、脉冲离子束源、脉冲离子束电源、圆形阴极弧源、阴极弧电源、冷却水配水系统等组成。

Diamant-VII-660型仪器的单腔极限真空度可达6.0*10-4Pa,可在尺寸为φ200mm的基片上,利用阳极层离子束技术、非平衡磁控溅射技术和阴极电弧技术的单个模式或者联合沉积模式工作,在成膜温度低至100℃的条件下,沉积含氢/不含氢多层超厚类金刚石薄膜、CrN薄膜等。可用于运载火箭阀门金属基底耐磨耐压、高速飞行器陶瓷基底耐高温冲蚀等功能结构表面制备方向的研究工作。

二、开标时间:2022年11月29日 09:30

三、其它补充事宜

1.拟定的唯一供应商名称及其地址:

供应商名称:星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司

供应商地址:江苏省苏州市工业园区唯亭星华产业园5#厂房

2.单一来源采购原因及相关说明:

大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室拟开展高端装备功能结构表面设计、制备及性能方面的研究,研究不同类型的金属薄膜或类金刚石薄膜制备工艺对其极端工况服役性能的影响规律,以制备出可满足广泛需求的功能薄膜,从而提升重大装备关键构件的表面性能,可用于运载火箭阀门金属基底的表面耐磨耐压、高速飞行器陶瓷表面的耐高温冲蚀等方向研究。基于该项目研究内容,需采购多功能低温沉积表面处理仪器。该设备采用刻蚀离子源+辅助阳极的专利技术,对工件表面进行等离子轰击清洗,单个离子源刻蚀电流不低于50A,辅助阳极电流不低于40A,刻蚀速率最高能达到0.7μm/h,满足中温和高温回火工件的离子清洗需求;具有混合低温离子清洗功能,满足温度敏感工件的刻蚀需求;基片成膜温度低至100°C,基片热变形小、膜基间内应力小、结合力强,是目前国内唯一能够制备超厚类金刚石薄膜的厂商。经调研,某表面技术有限公司生产的HIPIMS高能脉冲磁控溅射系统和某国际技术有限公司生产的台式高质量多功能薄膜磁控溅射系统的基片成膜温度为200°C,易使温度敏感材料产生较大热形变,材料表面难以制备高性能薄膜,且这些设备制膜方式单一、极限真空度不高,无法利用已有设备开展研究。而星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司可以在低至100°C的温度下,制备内应力小、结合强度高的薄膜。因此,只有星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司的Diamant-VII-660型产品能够满足本项目技术要求的需要,只能采用单一来源采购方式进行采购。

四、预算金额:

预算金额:120.******0 万元(人民币)

标签: 理仪器

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辽宁宝业工程造价咨询有限公司

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