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清华大学晶圆级薄膜原子层沉积设备采购项目单一来源公示
 
一采购人：清华大学
二地址：北京市海淀区清华园
三联系方式：王琦sbcwqtsinghua.edu.cn
四项目名称：晶圆级薄膜原子层沉积设备采购项目
项目编号：清设招第2022683号
五采购内容：晶圆级薄膜原子层沉积设备
六采用单一来源采购方式原因及说明
本项目设备调研充分，关键技术及工艺已经让Veeco公司做了DEMO验证，
能够到达IC研究和发展的要求，并且以下 分技术 能 ，
工艺 O2 0. ，并 以调
2 能够 Ms单分子层的薄膜沉积
3 能够 0currency1 O2薄膜 n n，fifl
能够 一 0fiatch工艺
，Veeco公司的 a annah 200关键工艺一，采用单一来源采
购北京 技 公司
本 和技术要求：
. 内 区 fi ， 区 以 ，
：3 0
.2 大 fi ： 00 0.2 6.
.3 的
. ， 分
2 及工艺 系 ：
2. 2 作为 ， 管线具 一个MFC 流量 制器，
流量范围分别在0200scc动 调
2.2 源管 采用电抛光3 6L型不锈钢材料， 连接接头均采用VCR金属

2.3 LD 快速响应脉冲隔膜阀，响应 s，全动 制， 不
currency1 200
2. CD阀门驱动 管线， LD阀门及 动截止阀等开关需要
2. 为确保没 前驱 冷凝，避免由 冷凝导致交叉污堵塞纳米孔洞
入口颗粒等问题，前驱源管 壁具 系 ， 不currency1 200
3 前驱通道系 ：
3. 前驱源通道管线不少 ，具 系
3.2 前驱 不锈钢钢瓶不 套，带手动针阀， 包系 不少 套
3.3 20前驱 ，3 液态源和固态源系 ，均 ，
不currency1 200
3. 钢瓶3 6L不锈钢材质，容积不 0l
工作模式：
. 具 快速 LD连续模式曝光模式
.2 曝光工艺模式： 深沟槽微陈列等深孔通孔等镀膜，曝光
工艺的深宽 不 000:
尾 ：具 尾 蒸发阱， 不currency1 0
6 泵：国际知名 牌 泵，抽速不 2 3/h，具
OFTPUMP功能
八制造：Veeco
制造地址：北京市朝阳区朗园C座3层丰收孵化器 业园
应：北京 技 公司
应地址：北京市朝阳区朗园C座3层丰收孵化器 业园
求 2022 11 23 2022 11 25 止
在 应 公示内容 的， 公示 1个工作 内
(包 ： 应名称联系人联系电 能够 本 采购项目的说明)
清华大学(联系人：王琦 62771946， ：sbcwqtsinghua.edu.cn)

联系人：郝工
电话：010-68960698
邮箱：1049263697@qq.com