一、 整体要求 该系统运用雾化技术和利用空气动力学聚焦喷射技术的原理,将一定粘度范围内的不同种类墨水或浆料材料雾化成飞升级气溶胶液滴,经过载气分选及输送,实现常温下能在 2D 和 3D 的表面上非接触式沉积精细特征的电子、结构和生物图案。该系统设备主要由:由打印平台、沉积控制模块、超声波或气动雾化模块、精细特征沉积模块、运动控制模块、视觉相机系统、软件系统及安全外壳等构成。 1. 工作条件:温度 15 - 30°C。相对湿度10 - 80%,非冷凝。 2. 电气要求: 220 VAC, 50 / 60 Hz。 ★3. 打印平台 XY 轴:≥200mm x 200mm,可自动运动控制且带真空和加热功能。 ▲4. 打印平台 Z 轴:≥25mm,可手动控制。 ▲5. 单次沉积线宽及间距:最细可达10μm,最宽可达2mm;最小间距:20μm。 ▲6. 单次沉积层厚: 100nm - 10μm可调。 7. 喷嘴到基板间距:最高可达 5 mm。 ▲8. 机械快门:2毫秒响应时间,用于中断沉积头和基板之间的气溶胶束流。 ★9. 打印速度:最高可达 100 mm/s。 ▲10. 运动精度:±25μm。 ★11. 运动控制模块:≥200 mm×200 mm 加热压板(带真空卡盘的夹具),可将基板加热至 100°C。 12. 系统在 100% 占空比下提供 0 .5 g 加速度。 13. 通过直接驱动伺服电机可为 X 轴和 Y 轴提供 200 mm/s 的最大速度。 14. 惰性气体:28 LPM氮气输入。 ▲15. 过程相机:通过过程观察相机可允许观察沉积区域。主计算机监视器上具有一个显示窗口。在计算机监视器上时,过程观察摄像的放大倍数为200倍。 ▲16. 对准相机:通过对准相机允许将沉积头对准基板。主计算机监视器上有一个显示窗口。在计算机显示器上观看时,校准摄像机的放大倍数约为 200 倍。 17. 设备安全罩:透明料,操作者可安全观察沉积过程。 18. 空气处理歧管:允许在系统运行时处理工作区域内的空气(不包括外部气流系统) ▲19. 软件系统在计算机上运行,用于基于行业标准 DXF 和 CAD 文件开发刀轨路径。 20. 控制软件:在主系统控制器上运行,提供图形用户界面,以操作系统。 21. 数据文件格式:DXF(2D)或 3D CAD。 ★22. 通过机械快门和横向移动的控制:可实现三维晶格及微柱阵列(提供相关案例和SEM照片); 23. 沉积喷射过程中,喷头组件及喷嘴内部具有鞘气环保护,实现将稠密的气溶胶与喷头和喷嘴的内壁隔开,避免堵塞现象发生。 ★24. 该设备可在配置单个超声波雾化器或气动雾化器的条件下运行,也可同时安装超声波雾化器和气动雾化器等两个雾化器进行切换运行。 ▲25. 标配超声波雾化器:室温下支持 1 ~ 10 cP 材料粘度范围(具体取决于材料)。 ★26. 可随时通过升级软硬件选项增加气动雾化器:室温下支持 1 ~ 1000 cP 材料粘度范围(具体取决于材料)。 ▲27. 工艺参数开源,支持用户使用成熟的商业材料和自主材料的研发。 ▲28.可在现有结构上、曲面上或沟槽中可进行共形图案喷射成型。无需传统的掩膜或薄膜。 ▲29. 可直接实现三维晶格及微柱阵列的立体结构。 30. 支持材料种类: ▲30.1. 金、银、铜、铂、铝、镍、铟等;碳、钌酸盐等电阻材料; ▲30.2. 单壁碳纳米管、多壁碳纳米管及 PEDOT:PSS; ▲30.3. 聚酰亚胺、聚乙烯吡咯烷酮、Teon AF、SU-8、粘合剂、不透明涂层、紫外线粘合剂及紫外丙烯酸树脂; ▲30.4. 有机半导体、单壁碳纳米管等半导体材料; ▲30.5. 一般溶剂、酸和碱、抗光蚀剂、DNA、蛋白质及酶等;石墨烯、钙钛矿及MXene等超材料; ▲30.6. 钛酸钡、氧化锆、氧化钇、YSZ 及 Ni/YSZ等各种陶瓷; 30.7. 蛋白质和 DNA等生物材料和 PLGA 等生物可降解聚合物; 30.8. 药物、生物标记物和反应剂/试剂。 ▲29. 基底材质包括:聚合物、玻璃、晶体硅、陶瓷、电路板和金属材料。 ▲30. 可快速切换材料,实现梯度功能结构。 31. 该系统技术为成熟的设备:提供使用该技术一区论文案例不少于100篇。 二、 系统配置 1、 主机包含: 打印平台:1套(带外部快门的精细特征打印头;200mm x 200mm工作区,带加热板;200mm XY自动运动控制;25mm Z轴手动控制) 视觉系统:1套(过程+校准摄像头+照明) 软件系统:1套(系统控制软件;基于AutoCAD的标准刀轨生成插件) 控制单元:1套(计算机控制系统;雾化器过程控制模块) 2、再循环冷水机 温度范围:-5°C至45°C 三、 资质要求 1. 整机质保1年。 2. 供应商必须拥有完整的售前、售中和售后团队,为客户提供完善的技术支持和服务;保证培训用户不少于3人。 |