制备芯片专用设备—氧化扩散、退火炉（JJ22001368）采购公告
制备芯片专用设备—氧化扩散、退火炉（JJ22001368）采购公告
| 项目名称 | 制备芯片专用设备—氧化扩散、退火炉 | 项目编号 | JJ******** |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 167*****61000 | 公告截止日期 | 167*****00000 |
| 采购单位 | 东北大学 | 付款方式 | 货到验收合格后付全款 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后60天 | 到货时间要求 | 签约后3天 |
| 预 算 | ******.0 | ||
| 收货地址 | 辽宁省沈阳市和平区文化路三巷11号 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 氧化扩散、退火炉 | 1 | 台 | 电工器材 |
| 品牌 | 赛瑞达 |
|---|---|
| 型号 | 定制 |
| 品牌2 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 品牌3 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 预算 | ******.0 |
| 技术参数及配置要求 | 结构：双管结构；硅片规格：4、6寸兼容取送料方式：石英钩手动取送料工控机：三管配置一台工控机控制控制权限管理：三级权限管理控温方式： 三段SPIKE控温+手动拉温区可用恒温区长度：＞400mm最高使用温度： 1180℃尾气排放：水浴氧化工艺尾气排毒箱排放，排气管设计有风量调节板。工作温度和精度：800-1180℃ ±0.5℃升温速率：100-600℃ ＞15℃/min600-1180℃＞10℃/min降温速率：600-100℃ ＞3℃/min1180-600 ＞5℃/min气路器件：全部使用VCR结构连接水浴氧化气路配置：N2 MFC（10SLM）O2 MFC（10SLM）O2 MFC（5SLM）保护N2 针阀控制水浴加热器：国产水浴加热器工艺腔体管：石英腔体管晶舟：石英舟设备主要由排毒箱、加热炉柜、气源柜等部件组成。设备反应室置于加热炉体中，由工控机控制管内温度、流量、压力，工艺过程全自动控制，可实现远程控制。 |
| 售后服务 | 无 |
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