哈尔滨工业大学机电学院高真空多功能薄膜沉积系统采购项目

哈尔滨工业大学机电学院高真空多功能薄膜沉积系统采购项目

技术指标详情:

公告时间:2015-08-04 11:14:32
项目名称:哈尔滨工业大学机电学院高真空多功能薄膜沉积系统采购项目
项目编号:GDC-****************0
中央国家机关政府采购中心受采购单位 哈尔滨工业大学 委托,对下列货物及服务进行网上电子政府采购,现邀请合格投标人进行网上竞价。
采购项目信息
采购单位:哈尔滨工业大学报价截止时间:2015-08-10 11:14:32
联系人:曹老师送货地点:哈尔滨工业大学一校区
联系电话:********到货时间:采购结果公告后 50 天内到货
联系邮件:*项目预算:395000.0(注:此预算在采购人可支付的情况下可增加金额)
剩余时间:签约时间:成交公告发布后14个工作日内签署合同
资质要求
售后服务网点: 无具体要求销售资质需求: :
专业资质需求:
踏勘需求
踏勘地点:踏勘时间:
联系人:联系电话:
资质要求:根据《中央国家机关政府采购中心网上竞价操作规程》(国机采办【2014】10号),采购人对产品质保或售后维保有要求的,供应商应按要求上传相应的质保或售后维保承诺函。承诺函应当真实有效。 售后服务承诺函或承诺书应加盖公章并以附件形式上传。在售后服务承诺函或承诺书之外进行说明内容的不视为有效文件。
供应商在竞价时,须根据资质要求中的内容以附件形式上传相关资质证明。
采购商品信息
商品分类参考品牌规格型号单位数量 产地要求维保质保要求偏离表技术指标
实验室设备沈阳新蓝天FZJ5001中国原厂 1年 1、设备用途:在高真空环境下,对不同的基体材料进行电子束蒸发和磁控溅射镀膜。主要用于氧化物、陶瓷和各种高熔点金属材料的电子束蒸发和磁控溅射。2、腔室尺寸:电子束蒸发腔室:真空室尺寸Φ500×H500(mm)筒式单层真空室,在真空室壁上焊接水冷槽,通过循环水对真空室进行冷却。磁控溅射腔室:磁控溅射腔室坐在蒸发室的右边,真空室尺寸Φ450×H450(mm)筒式单层真空室,大法兰盖电动升降。3、系统真空性能指标:3.1电子束蒸发室极限真空:连续烘烤36小时(≤150℃)连续抽气其极限真空≤1.0×10-4Pa。3.2磁控溅射室极限真空:连续烘烤36小时(≤120℃)连续抽气其极限真空≤1.0×10-4Pa。3.3蒸发室抽气速率:从大气开始抽气,在≤40分钟内,真空度≤8×10-4Pa3.4溅射室抽气速率:从大气开始抽气,在≤40分钟内,真空度≤8×10-3Pa。3.5蒸发室漏率:停泵关机12小时后,测其真空度≤5Pa。3.6溅射室漏率:停泵关机12小时后,测其真空度≤5Pa。4、电子枪主要技术参数:电子枪功率6KW,电子束偏转角270?,束流在0-600mA范围内可调,四穴水冷铜坩埚,坩埚容积为20ml,深度为22mm,可电动换位,遥控盒手持操作,枪电源高压灭弧自动复位,冷却水:流量≥10L/min,水压≥0.15Mpa, 入口水温≤25℃。5、样品台:蒸发室和磁控溅射室的样品台为同一结构,具有同样功能,可放样品尺寸:100×100(mm),加热温度:室温~300℃,温度可控可调,样品与干锅之间的距离300mm±30可调,样品与磁控靶之间距离100mm±30可调;样品转动速度0~20r/min可调。6、磁控靶:2支Φ4"永磁靶,RF&DC兼容;均设置电动挡板,在暴露大气时2支靶可调整相对基片的距离和角度。7、电源:电子枪电源,样品温控电源,控制电源,照明烘烤电源,中频电源,直流电源。8、进气系统:MFC质量流量控制器:两路进气,O2:0~50sccm;Ar:0~100sccm。
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标签: 电机 薄膜

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