文章基本信息
采购类别： 单一来源公告 招标编号： null
采购人： null 代理机构： null
采购预算：(万元) null

甘肃省科学院传感技术研究所于2015年得到了中央引导地方科技基础条件专项“MEMS传感器百级洁净实验室设备购置”的资助，按照项目计划甘肃省科学院传感技术研究所对“MEMS传感器百级洁净实验室设备购置”项目中仪器设备拟用单一来源方式采购，现将有关情况予以公示。

（一） 采购人：甘肃省科学院传感技术研究所

（二） 项目名称：“MEMS传感器百级洁净实验室设备购置”项目

（三） 拟采购内容：离子束刻蚀机1台；微波等离子去胶机1台；椭偏仪1台。

（四） 拟采购设备说明：

1）、离子束刻蚀机（生产商：美国AVP公司 型号：RF350）

该高精度离子束刻蚀机由真空系统、离子束源系统、控制系统、冷却系统组成。可完成2～8英寸晶圆片和方片的衬底材料刻蚀、去胶等功能。其所有的功能都能实现操作简单、工艺步骤简练、结果重复性强等特点。

2）、微波等离子去胶机（生产商：德国α-Alphaplasma公司 型号：Q235）

该微波等离子去胶机由通用和特殊气体供给管路系统、样片处理腔系统、等离子源系统、温控台盘系统、真空系统、控制软件系统组成。可完成2～8英寸晶圆片和方片光刻胶去除、表面预处理、减薄等功能，其所有的功能都能实现智能控制，而且可通过软件批量控制工艺处理数据。

3）、椭偏仪（生产商：美国J.A.Woollam公司 型号：M-2000）

该椭偏仪由控制台、光路系统、软件分析系统组成。可完成2～8英寸10～15um透明薄膜及光刻胶厚度测量。该设备数据采集及分析软件都基于Windows系统，操作方便，材料库全、色散模型多、功能强大。

（五） 采用单一来源采购方式的原因：

①传感技术研究所近几年来，通过项目申报、团队合作等方式各方面筹集资金，用于建设MEMS研发线，来进行高端磁性传感器的研发工作。目前，研发线前端已到位光刻类设备均是精挑细选出的高端精密设备。后端刻蚀和去胶类设备离子束刻蚀机及配套设备微波等离子去胶机也是进行磁性芯片制作关键的工艺设备，而椭偏仪是工艺中用于实时监测刻蚀结果的重要依托。为了保证刻蚀和去胶与前端光刻设备在工艺稳定性和一致性达到高度统一，对离子束刻蚀机及配套设备微波等离子去胶机和椭偏仪的整体性能和精度度要求较高。

② 磁性芯片制作最小特征尺寸在0.6um，这对刻蚀机的刻蚀均匀度要求非常高，若刻蚀机离子束束流密度和均匀性稍有变化，特征尺寸会偏离0.6um。据调研目前，国内研发、生产、市售的离子束刻蚀机没有一款参数能满足我所磁性芯片制作要求。国外市售离子束刻蚀机只有美国AVP公司生产的RF350机型性能参数不仅能满足我所磁性芯片制作要求（刻蚀深宽比、重复性、均匀性、稳定性、材料多样性），还具有性价比高、功能全的特点。另外，RF350型还拥有的独特功能有：极高的刻蚀重复性<1.0%、极高的薄膜刻蚀速率的均匀度<1.0%、机器稳定工作时间>90%（24h不间断运转）、极好的机器适用性可刻蚀各种材料、载物台背后可控气冷使基片可以有效冷却、可以以高速率刻蚀各种材料。

③ 离子束刻蚀机的配套设备微波等离子去胶机和椭偏仪主要用于刻蚀后的去胶和刻蚀中的薄膜厚度测试。用于去胶和检测的仪器精度、分辨率、稳定性、重复性、尤其是与主设备配套兼容性是产品研发的基础条件，也是传感器和可靠性的保障。按照主设备离子束刻蚀机对外围配套设备的要求，只有德国α-Alphaplasma公司的Q235型微波等离子去胶机和美国J.A.Woollam公司的M-2000型椭偏仪与主设备匹配性和兼容性好。

④ 中央引导地方科技基础条件专项资金项目申报书项目实施内容中对离子束刻蚀机及配套设备微波等离子去胶机和椭偏仪都有厂家和型号的限制，分别为美国的离子束刻蚀机RF350型、德国的微波等离子去胶机Q235型、美国的M-2000型（附件1）。根据《中央引导地方科技基础条件专项资金管理办法》财教﹝2012﹞396号文件（附件2）第四章第十九条“项目单位应当按照专款专用的原则”；第二十条“项目单位应严格按照财政部批复的项目及预算执行，不得自行调整”；第五章第二十六条（二）不得“擅自变更项目内容”的相关规定，所以在设备的采购中不得更改厂家和型号。

鉴于上述原因，传感技术研究所在“离子束刻蚀机及配套设备”的采购中申请进行单一采购，采购厂家为美国AVP公司的RF350型离子束刻蚀机1台、德国α-Alphaplasma公司的Q235型微波等离子去胶机1台、美国J.A.Woollam公司的M-2000型椭偏仪1台。

（六） 拟定的唯一供应商：

离子束刻蚀机：

美国AVP技术责任有限公司，美国弗里蒙特商业中心4140号，电话：***-*******

微波等离子去胶机：

新加坡新展科技有限公司，上海黄浦区人民路998号金天地国际大厦1008室，电话：***-********

椭偏仪：

上海芷云光电有限公司，上海市漕宝路70号C座906室，电话：***-********。

（七） 专业人员论证意见：

专业人员：

1、席力 研究员（兰州大学物理科学与技术学院）

研究方向：磁性薄膜、自旋电子学材料

2、何山虎 高级工程师（兰州大学物理科学与技术学院）

研究方向：半导体工艺技术、敏感与传感器件

3、张国斌 研究员（中国科学技术大学国家同步辐射实验室）

研究方向：同步辐射光学

席力：

离子束刻蚀机：本人仔细阅读了甘肃省科学院传感技术研究所提供的“离子束刻蚀机”的具体配置、相关参数和供货方信息，根据我们实验室使用的经验，并与同领域的其他专家进行了交流和沟通，认为：美国AVP公司提供的离子束刻在刻蚀均匀性和稳定性上能控制在1%以内，刻蚀角度可在0°～90°之间旋转并且旋转精度在±0.5°这两大优势在同行业设备中所不具有专利功能。并且这两大功能在使用便捷度和产品稳定性、均匀性上对传感所的磁性芯片制作意义重大。鉴于整体系统的高要求和特殊性，建议该设备在美国AVP公司采购。

微波等离子去胶机：甘肃省科学院传感技术研究所拟购置 “微波等离子去胶机”，仔细审阅了相关参数和配置要求，同相关人员进行了交流，认为传感所购买的微波等离子去胶机比常规去胶机有更高的技术要求。首先，该款设备采用2.45GHz高频微波等离子处理技术，离子轰击对晶圆的损伤减小；其次，该设备微波自偏压趋近于零，晶圆不会被静电破坏，无损伤处理。上述2点优势几乎解决微波等离子去胶机的工艺瓶颈问题，这更加限制了采购的可选余地。目前，能满足传感所要求的微波等离子去胶机设备国内没有供选择的厂家和公司，国外技术参数能满足并且性价比高的只有德国α-Alpha plasma公司提供的Q235型设备，从技术角度考虑，选择该公司作为设备的提供方具有较高的可行性。因此，本人建议该仪器设备在德国α-Alpha plasma公司采购。

椭偏仪：本人仔细阅读了甘肃省科学院传感技术研究所提供的“椭偏仪”的具体配置、相关参数和供货方信息，根据我们实验室使用的经验，并与同领域的其他专家进行了交流和沟通，认为：常规RAE或RPE结构的椭偏仪，虽然容易制造，但D的测量存在缺陷：在D接近于0o或180o时它的测量敏感度和准确度大大下降， 这对在诸如超薄薄膜、透明基底等样品上的应用造成了一定的困扰。而J.A.Woollam公司为解决这个缺陷，开发了多项技术专利，并以此为核心推出2大系列产品： 以Auto-Retarder专利为核心的Vase系列光谱椭偏仪和以Rotating Compensator（旋转补偿）技术为核心的M-2000系列光谱椭偏仪。传感所拟采购的椭偏仪就是趋于M-2000系列的，故鉴于整体系统的高要求和特殊性，建议该设备在美国J.A.Woollam公司采购。

何山虎：

离子束刻蚀机：本人仔细阅读了甘肃省科学院传感技术研究所提供的离子束刻蚀机，美国AVP公司提供的参数中：1、 极高的薄膜刻蚀速率的均匀度<1.0 %，（同类产品均匀度标准 <1.5%）；2、 极好的薄膜刻蚀速率的重复性<1.0%，（同类产品重复性标准 <1.5%）；3、 极高的机器稳定性，机器连续工作时间>90%（24h计算）；4、 极好的机器适用性，载物台背后可控气冷，通过一定机制使基片可以有效冷却，可以以高速率精确刻蚀各种金属、非金属材料，包括低熔点材料，如光刻胶等；载物台可承载各种<8”尺寸的基片。 都是国内同类刻蚀设备达不到的性能参数。鉴于该设备的排它技术参数，建议在美国AVP公司采购离子束刻蚀机。

微波等离子去胶机：本人仔细阅读了甘肃省科学院传感技术研究所提供的微波等离子体去胶机的具体配置和相关参数，认为传感所购买的微波等离子体去胶机比常规去胶机具有更广阔的使用范围。首先，该设备基于Windows CE 开发的操作系统，操作界面人性化，良好的人机界面，能够兼容Window office软件，导入导出数据方便查看管理；其次，微波等离子体电子密度为传统等离子体的约100倍，高的电子密度使得处理效率大幅提升；再次，是该设备所具有的一个独特专利技术，微波自偏压趋近于零，晶圆不会被静电破坏，无损伤处理，这对传感所微纳芯片MEMS传感器制作是个很大的技术优势支持。鉴于德国α-Alpha plasma公司提供的该设备独特优势，建议在德国α-Alpha plasma公司采购微波等离子去胶机。

椭偏仪：甘肃省科学院传感技术研究所申请采购美国J.A.Woollam公司的的“椭偏仪”来配合离子束刻蚀机使用，用于测量多层纳米磁性薄膜和微纳层光刻胶的厚度，我仔细阅读了该设备的配置、相关参数和供货方信息，认为：传感所进行高端磁性微纳MEMS芯片研发工作，对图形化工艺每台设备的精细化程度要求较高，这对设备的硬件和软件要求非常苛刻，尤其是由于膜厚检测的设备，它的稳定性、分辨率、重复性、误差对芯片制作过程中的判断和成品率高低是非常重要的，所以，在设备选型时不光注重参数达标，而且更重要的是硬件配置的智能控制和协调性上要有严格要求。美国J.A.Woollam公司的M-2000型椭偏仪有极快的测量速度、超高的重复性、多软件离线分析，不仅能满足微纳磁性芯片制作中检测要求，还具有性价比高、功能全的特点。鉴于整体系统的高要求和特殊性，该设备必须在美国J.A.Woollam公司采购。

张国斌：

离子束刻蚀机：甘肃省科学院传感技术研究所提供的离子束刻蚀机相关参数，本人仔细审阅过，并同相关人员进行了交流，我认为传感所购买的离子束刻蚀机比常规刻蚀机具有较高的技术要求和设备稳定性。首先，该台设备对刻蚀材料具有多样性和选择性；其次，该台设备背部具有气冷装置，气冷温度和精度可以精确控制，这样对低熔点的光刻胶刻蚀是非常容易的；最后，该设备刻蚀速率重复性可以达到1%，同类型的此类设备刻蚀速率重复性通常都在1.5%。上述3大优势对传感所的磁性芯片制作意义重大，而且美国AVP公司提供的该设备具有与同类设备独特的优势和性能参数，这些优势对传感所后期开展更广阔的项目研究具有加大的支撑作用。鉴于整体设备的特殊性，建议该设备在美国AVP公司采购。

微波等离子去胶机：本人仔细阅读了甘肃省科学院传感技术研究所提供的微波等离子去胶机的具体配置和相关参数，认为传感所购买的微波等离子去胶机比常规去胶机具有更广阔的使用范围。首先，载物台的加热盘温度在0-200℃可控，这样对MEMS的厚胶、高温可反转胶、聚亚酰胺材料的去除是非常方便的；其次，α-Alpha Plasma公司提供的Q235型设备腔体内无需电极，通过微波自身激发的等离子体来去胶，具有更好的操控性和自兼容不同尺寸晶圆处理，无UV损伤。上述设备所具有的特点是同行业设备不具备的，是德国α-Alpha Plasma公司所独有的专利技术。鉴于整体设备的高要求，建议该设备在德国α-Alpha plasma公司采购。

椭偏仪：本人仔细阅读了甘肃省科学院传感技术研究所提供的椭偏仪具体配置和相关参数，该所提供的M-2000 椭偏仪速度与精度(Y= 45 ± 0.075° , D=0 ± 0.05° , δthickness = 0.002nm)兼备，既适合于科学研究，也适合于产品研发与检测；高精度测量为准确分析厚度、折射率等薄膜特性提供了有力的保障，快速测量使实时监控、均匀性测试（Mapping）等更加快捷方便。另外，提供该设备5个软件许可，椭偏仪的重点及难点在于数据分析，多个软件许可对于离线分析很重要，另外该公司乐于与用户分享建模经验，协助客户分析数据。这两点优势与同类设备比起来就有很大的优势和单一性。鉴于整体设备的高要求，建议该设备在美国J.A.Woollam公司采购。

（八） 公示期限：自发布之日起5个工作日

（九） 采购方代表：李工农

联系电话：****-*******

联系人地址：兰州市城关区定西南路229号

（十） 甘肃省财政厅政府采购

联系人：张瑜

联系电话：****-*******

地址：兰州市城关区东岗西路696号

（十一） 供应商、单位或者个人对该项目采用单一来源方式有异议的，可以在公示期结束后两个工作日内将书面意见反馈给省财政厅政府采购并同时抄送采购人。