基本信息：
申购单主题： 高真空多功能薄膜沉积系统
申购单类型： 竞价类
设备类别： 实验室设备
使用币种： 人民币
竞价开始时间： 2015-09-15 14:20
竞价结束时间： 2015-09-20 14:15
申购备注：

申购设备详情：

设备名称 数量 单位 品牌厂商 型号 是否标配 售后服务 规格配置 附件
高真空多功能薄膜沉积系统 1 台 * * 是 设备用途：在高真空环境下，对不同的基体材料进行电子束蒸发和磁控溅射镀膜。主要用于氧化物、陶瓷和各种高熔点金属材料的电子束蒸发和磁控溅射。2、腔室尺寸：电子束蒸发腔室：真空室尺寸Φ500×H500（mm）筒式单层真空室，在真空室壁上焊接水冷槽，通过循环水对真空室进行冷却。磁控溅射腔室：磁控溅射腔室坐在蒸发室的右边，真空室尺寸Φ450×H450（mm）筒式单层真空室，大法兰盖电动升降。3、系统真空性能指标：3.1电子束蒸发室极限真空：连续烘烤36小时（≤150℃）连续抽气其极限真空≤1.0×10-4Pa。3.2磁控溅射室极限真空：连续烘烤36小时（≤120℃）连续抽气其极限真空≤1.0×10-4Pa。3.3蒸发室抽气速率：从大气开始抽气，在≤40分钟内，真空度≤8×10-4Pa3.4溅射室抽气速率：从大气开始抽气，在≤40分钟内，真空度≤8×10-3Pa。3.5蒸发室漏率：停泵关机12小时后，测其真空度≤5Pa。3.6溅射室漏率：停泵关机12小时后，测其真空度≤5Pa。4、电子枪主要技术参数：电子枪功率6KW，电子束偏转角270？，束流在0-600mA范围内可调，四穴水冷铜坩埚，坩埚容积为20ml，深度为22mm，可电动换位，遥控盒手持操作，枪电源高压灭弧自动复位，冷却水：流量≥10L/min，水压≥0.15Mpa， 入口水温≤25℃。5、样品台：蒸发室和磁控溅射室的样品台为同一结构，具有同样功能，可放样品尺寸：100×100（mm），加热温度：室温~300℃，温度可控可调，样品与干锅之间的距离300mm±30可调，样品与磁控靶之间距离100mm±30可调；样品转动速度0~20r/min可调。6、磁控靶：2支Φ4"永磁靶，RF&DC兼容；均设置电动挡板，在暴露大气时2支靶可调整相对基片的距离和角度。7、电源：电子枪电源，样品温控电源，控制电源，照明烘烤电源，中频电源，直流电源。8、进气系统：MFC质量流量控制器：两路进气，O2:0~50sccm；Ar：0~100sccm。 无