高真空磁控溅射仪

高真空磁控溅射仪

福州大学高真空磁控溅射仪自行采购公告

公告时间: 2023-03-29

项目信息

项目名称

高真空磁控溅射仪

项目预算

*****

项目编号

ZG******

公告截止时间

2023年03月29日-2023年04月01日

采购单位信息

采购单位名称

光催化所

联系人

沈锦妮

联系方式

电话: 138*****662

采 购 清 单

序号

名 称

规格型号

主要技术参数或服务需求

数 量

单 价

小计金额

1

高真空磁控溅射仪

博远微纳/SD-650MH

1.腔体尺寸:直径260*200MM 2.极限真空:5X10-5Pa 3.气体控制:气体流量控制阀 4.冷却方式:风冷(泵)+水冷(溅射靶) 5.电源功率:3KW

1台

*****

*****

备注:供应商须在采购公告期内提供纸质报价文件(加盖公章,报价材料包括但不限于:报价表等),主要技术参数、服务内容及其他所需材料详询采购单位经办人员。


联系人:郝工
电话:010-68960698
邮箱:1049263697@qq.com

标签: 磁控溅射 真空

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