公示简要情况说明：申请采购深低温强磁场微区显微成像系统1台

一、 采购人名称： 国科大杭州高等研究院

二、 进口产品公示编号： importedProduct202*****203*****

三、 采购项目名称： 深低温强磁场微区显微成像系统

四、 采购组织类型： 分散采购-分散委托中介

五、 采购项目概况：

六、 符合上述采购要求的进口产品产地、品牌（一家及以上）：

七、 申请理由： 当前市场上主流的国际品牌有WITec，Renishaw和NT-MDT等，高端的深低温强磁场微区显微成像系统，其核心指标温度环境最低一般达到做到10K甚至更低，磁场极限一般可以做到7T，并且可以在深低温强磁场条件下实现共聚焦快速成像，成像横向空间分辨率一般好于350nm。
市场上的国产主流同类品牌有卓立汉光，其他国产品牌还没有形成规模。该产品空间分辨率为1-2um，温度范围为83K~873K，没有深低温及强磁场的配套方案。
国产设备无法满足单位需求，具体体现在：
1.目前国产设备在商业的微区显微成像方面，空间分辨率正常测试只有不到1um，且目前无法实现共聚焦的快速成像，也无法在深低温强磁场条件下实现成像功能。
2.无专职的技术人员，该系统是一个复杂且精密的仪器，没有优质的维护及售后服务，无法保障后续的实验开展。
3.缺乏自动化设计，没有专用的软件和算法，测试结果需要用户自行分析计算，仪器操作和实验过程复杂。

八、 论证专业人员信息及意见：

专业人员对进口产品技术性能先进性、采购必要性的论证意见： 专家1 何进：
专家意见：在当下这个创新风起云涌的年代，科研发展战略应瞄准国际前沿，为创新发展而进步。深低温强磁场微区显微成像系统设备，可以在深低温磁场下通过多维原位拉曼/荧光/白光等成像分析材料，有助于揭示磁光拉曼效应的微观机制与物理本质，能够极大的提高目前单位的科研条件。
当前市场上主流的国际品牌有WITec，Renishaw和NT-MDT等，高端的深低温强磁场微区显微成像系统，其核心指标温度环境最低一般达到做到10K甚至更低，磁场极限一般可以做到7T，并且可以在深低温强磁场条件下实现共聚焦快速成像，成像横向空间分辨率一般好于350nm。
市场上的国产主流同类品牌有卓立汉光，其他国产品牌还没有形成规模。该产品空间分辨率为1-2um，温度范围为83K~873K，没有深低温及强磁场的配套方案。
国产设备无法满足单位需求，具体体现在：
1.无法做到共聚焦快速成像，非共聚焦成像速度也比较慢，不能满足单位的使用需求。
2.无专职的技术人员，该系统是一个复杂且精密的仪器，没有优质的维护及售后服务，无法保障后续的实验开展。
3.缺乏自动化设计，没有专用的软件和算法，测试结果需要用户自行分析计算，仪器操作和实验过程复杂。
基于此，结合国科大杭州高等研究院（采购单位）需求，本项目建议采购进口商业化且经过验证的设备，对后续材料分析测试至关重要。

专家2：唐孝生
专家意见：深低温强磁场微区显微成像系统是当前国内外研究材料的光学、电学、磁学等特性的重要设备。该设备融合多种表征技术于一体，全面测量多重环境场下材料的声子与激子响应、表面磁结构、光电性能等，操作简易，并配备强大的分析软件实现数据关联，进而全面深入理解它们之间内在关系。
目前市场上有多家国际品牌有较高的市场占有率，有WITec，NT-MDT和Horiba等，且对于深低温强磁场环境，有成熟的配套方案可以使用。核心指标温度环境最低一般可以做到10K甚至更低，磁场极限可以做到7T，同时可以在深低温强磁场条件下实现共聚焦快速成像，其成像横向空间分辨率一般好于350nm。
而国内市场上，长时间没有相关产品出现，近几年才有同类品牌有卓立汉光等开始初步市场化。该产品还没有针对极端环境的成熟配套方案，测试主要以单点为主，成像测试速度较慢，空间分辨率1-2um。
国产设备无法满足单位需求，具体体现在：
1.光谱仪内有三块反射镜，反射镜信号损耗大，无法满足拉曼等测试的高灵敏度要求。
2.目前结合采购单位需求，国产设备未有深低温的测试环境和磁场环境可以配套提供。这是一个需要大量前期摸索验证和设计的极端环境要求的设备，对方方面面的门槛较高，特别是微区显微成像功能对配套环境的漂移和振动的极端要求达到了纳米量级，这需要一个很长的摸索时间和过程。目前而言，国产设备暂无这样符合深低温和强磁环境配套需求的设备可以提供。
基于此，结合国科大杭州高等研究院（采购单位）需求，本项目建议采购进口商业化且经过验证的设备，对后续材料分析测试至关重要。

专家3：孙宽
专家意见：深低温强磁场微区显微成像系统是实现在深低温（优于10K）和强磁（0~7T）物理环境条件下的微区显微成像测试的重要设备，可以实现如单层二维半导体材料的异质结之间的界面调控、光吸收和荧光特性研究分析、不同温度下的电输运特性分析等等。
目前，有较高市场占有率的是WITec，Horiba和Renishaw等国际品牌，并且针对不同的应用需求，配备了较为细化的产品进行配套。对于深低温强磁场微区显微成像，核心指标温度环境最低一般可以做到10K甚至更低，磁场极限可以做到7T，同时可以在深低温强磁场条件下实现共聚焦快速成像，其成像横向空间分辨率一般好于350nm。
同类国产产品有卓立汉光、奥谱天成，但他们的产品都还没有足够的用户，尤其是还没有足够的用户发表的共聚焦快速成像文献来证明其性能，同时他们没有深低温或强磁场的环境配套。
国产设备无法满足单位需求，具体体现在：
1.安装量极少，使用国产设备发表的文献极少，且没有深低温强磁场环境案例。
2.没有完整深低温强磁场微区显微成像解决方案，无法实现原位共聚焦快速成像。
基于此，结合国科大杭州高等研究院（采购单位）需求，本项目建议采购进口商业化且经过验证的设备，对后续材料分析测试至关重要。

专家4：唐红林
专家意见：该商品未被列入《限制进口机电产品目录》和《中国禁止进口限制进口技术目录》。

专家5：崔家斌
专家意见：深低温强磁场微区显微成像系统是低温强磁场共聚焦拉曼成像系统是当前国内外研究材料的物性与性能调控的重要设备。该系统是一个极低温强磁场下的原位材料研究的强大平台，利用高分辨成像可分析材料的低温晶格振动特性、结构相变、磁相变等。
目前，WITec，Horiba和Renishaw等国际品牌，在市场上有较高的占有率。其核心指标温度环境最低一般可以做到10K甚至更低，磁场极限可以做到7T，同时可以在深低温强磁场条件下实现共聚焦快速成像，其成像横向空间分辨率一般好于350nm。
国内市场上，还未有成熟的商业化高用户量的产品，未有深低温的环境配套，磁场环境设备也未有可以提供的。同类国产品牌有卓立汉光，其产品空间分辨率1-2um，无共聚焦快速成像能力。
国产设备无法满足单位需求，具体体现在：
1.目前国产设备在商业的微区显微成像方面，空间分辨率正常测试只有不到1um，且目前无法实现共聚焦的快速成像，也无法在深低温强磁场条件下实现成像功能。
2.国产设备未有深低温的测试环境和磁场环境可以配套提供。
基于此，结合国科大杭州高等研究院（采购单位）需求，本项目建议采购进口商业化且经过验证的设备，对后续材料分析测试至关重要。

九、 其它事项：

1、本项目公告期限为3个工作日，供应商对该项目拟采购进口产品及其理由和相关需求有异议的，可以在公示期限内（截止时间为本公示发布之日后的第4个工作日），以书面形式向采购人及同级财政监管部门提出异议。

2、其他事项

十、 联系方式：

1、 采购人名称：国科大杭州高等研究院

联系人： 胡老师

联系电话：182*****562

传真： /

地址： 国科大杭高院13-308

2、 同级政府采购监督管理部门名称：

联系人： 朱女士/王女士

监管部门电话： 0571-********

传真：

地址： 杭州市上城区四季青街道新业路市民之家G03办公室