真空球形平面型磁控溅射镀膜系统招标公告
真空球形平面型磁控溅射镀膜系统招标公告
1.招标条件
本项目已通过主管部门审批,招标人为哈尔滨工业大学,项目已具备招标条件,现对该项目进行公开招标。
2.项目概况
2.1项目名称:高真空球形平面型磁控溅射镀膜系统改造
2.2项目编号:HITZB-1005
2.3采购数量:1
2.4采购需求及主要技术指标(以用户提供序号排列):
设备特性:
该设备具有可在共形整流罩内外表面镀制均匀致密的氧化物、金属膜的沉积。样品沉积状态可容纳Ф300mm的共形整流罩衬底,具有内外两套磁控溅射靶,样品托盘采用一定的运动方式进行旋转镀膜,确保在Ф300mm范围内均匀沉积单晶层材料。
设备详细技术参数如下:
(一)基本结构与组成
本系统为单室立式结构的高真空磁控镀膜设备,可用于镀制各种硬质膜、金属膜、氧化物膜层等。系统主要由镀膜室、磁控溅射靶(二个靶、另外备一个)、射频电源、直流电源、样品加热转台、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统等组成。
(二)主要技术性能指标
1. 真空室结构及尺寸
1.1 真空室:不小于Ф400×800(mm),不锈钢结构。有多个侧窗可观察腔体内部情况,可内烘烤温度不低于100℃。
2. 真空获得及测量
2.1 采用分子泵+机械泵的组合方式,抽气。
2.2 系统极限真空:系统经24小时烘烤后连续抽气,优于10-5Pa。
2.3 系统漏率:停泵关机12小时后真空度不大于10Pa。
3. 靶的结构尺寸
在真空室的侧面布置一个磁控靶,靶材尺寸2英寸,靶材对着工件外壁,并且可以在计算机控制下,调整靶材与工件之间的距离,靶内通水冷却,射频与直流兼容;在真空室底部有另外一个磁控靶,放置一个特殊结构的柱状靶与平面靶结合的复合靶,靶材直径大约50毫米管状,引入到工件内表面,靶内水冷、可以在计算机控制下做水平移动,拆下复合靶可以换上一个1英寸的摆头靶,该靶可以水平移动。各个靶的移动速度通过计算机控制,达到靶面中心到样品壁的距离一致。
4. 工件样品转架
样品转架,在真空室下底上安装一个样品转架。转架上一次可以放置一个炮弹形的回转体工件,工件缺失部分采用补偿块补偿成一个整个回转体,根据工件大小的不同,设计成3个承接托盘,可以放置3个不同尺寸的工件(具体托盘大小双方协商确定),转架可以自转,步进电机带动,最高转速30转/分,同时样品转架还可以靠步进电机自动升降,升降速度可调、最高升降速度20毫米/分。样品转架外面有加热器,可以在镀膜过程中对工件进行加热,加热器是电阻丝式,样品加热温度:室温~400℃,加热器与侧面磁控靶之间留有开口,便于侧面磁控靶镀膜。采用日本产温度控制器对加热器进行加热控温。控温精度±1℃。加热器可随样品架升降,但不转动。
5. 电源
5.1、加热控温电源:一套
5.2、射频电源:一套 500W 手动匹配
5.3、直流电源:一台 500W;
5.4、偏压电源(用户提供) 一台,
5.5、电机控制电源:4台
5.6、总控制电源:一台。
6、 气路系统:
采用二路MFC质量流量计控制器进气,每一路质量流量计前配有一Dg16手动截止阀,并备有混气室。
7、水流报警系统:
系统配有水流报警系统,用来对分子泵、磁控靶、真空室进行冷却,在水路上安装有水流继电器,一旦缺水或水流不足,将进行报警并切断相应电源,以防止损坏设备。
要求加热器的加热温度可以通过计算机程序设定,磁控靶与工件之间的距离、与工件自转、工件升降均采用计算机对其进行控制,使磁控靶中心在工件表面扫描的停留时间和距离相等,从而保证工件表面镀膜的均匀性。
9、附件
1)安装台架:整个设备安放在一个用型钢焊接而成的台架上,台架及围板均进行防锈及喷塑处理。
2)提升机:用来提升真空室上盖法兰。
3)气路卡套、压垫、管接头、不锈钢管等;
4)无氧铜密封垫圈(各种相关规格)
5)氟橡胶密封圈(各种相关规格);
6)螺栓、螺母、螺钉、垫圈等标准件
7)各种相关规格的不锈钢轴承。
供货期:6个月
质保期:1年
3.投标人资格要求
3.1投标人需具备中华人民共和国境内的独立法人资格,本次招标不接受联合体投标,不允许将项目分包或转包。
3.2投标人需具备《中华人民共和国政府采购法》第二十二条的条件,并未被列入政府采购黑名单。
4.资格审查方式
本项目采用资格后审方式,主要资格审查标准、内容等详见招标文件。
5.投标报名
凡有意参加投标者,请于2015年10月14日至2015年10月20日(法定公休日、法定节假日除外),每日上午8时30分至11时30分,下午13时30分至16时30分(北京时间),将报名材料(本公告附件1、附件2)送达至哈尔滨市南岗区西大直街92号哈尔滨工业大学行政办公楼110房间。
6.招标文件的获取
如果报名符合开标条件,招标文件将以电子邮件的形式发送到您报名表中所留的邮箱,敬请自行查阅,哈工大招标与采购管理中心不再另行通知,请按招标文件要求交纳投标保证金等相关费用,以获取投标资格。
7.投标文件的递交
7.1投标文件递交截止时间及地点详见招标文件。
7.2逾期送达的或者未送达指定地点的投标文件,招标人不予受理。
9.本项目招投标过程中如出现有弄虚作假、恶意投诉和无理缠诉行为的投标企业,将严格按相关法律和规定处理。
10.联系方式
招标机构:哈尔滨工业大学招标与采购管理中心
地址:哈尔滨市南岗区西大直街92号哈尔滨工业大学行政办公楼110房间
邮编:150001
招标联系人:李占奎 李桂霞 电话: ****-******** 邮箱:zhankui@126.com
技术联系人:杨磊 电话: ****-********
哈尔滨工业大学招标与采购管理中心
2015年10月13日
标签: 磁控溅射
0人觉得有用
招标
|
哈尔滨工业大学招标与采购管理中心 关注我们可获得更多采购需求 |
关注 |
最近搜索
无
热门搜索
无