基本信息：
申购单主题： 高真空有机金属蒸发镀膜机
申购单类型： 竞价类
设备类别： 仪器仪表
使用币种： 人民币
竞价开始时间： 2015-11-19 14:54
竞价结束时间： 2015-11-24 13:35
申购备注：

申购设备详情：

设备名称 数量 单位 品牌厂商 型号 是否标配 售后服务 规格配置 附件
高真空有机金属蒸发镀膜机 1 套 北京泰科诺 ZHD-400 是 1.真空镀膜室.前开门结构。 需采用不锈钢材料。有4组以上蒸发源，可进行有机分子蒸镀，以及金属蒸镀。蒸发源之间有挡板。设有基片架、挡板、掩膜板及探头等接口。2.真空系统从大气抽至10-4Pa所用时间≤40 min。真空计测量范围应从1×105 Pa到1×10-5 Pa。3.蒸发源（4组以上）金属蒸发源2 组，金属蒸发源采用舟式源，蒸发温度：室温～1300℃以及以上。电流通过逆变式调控。有机束源炉2 只，蒸发温度：室温～600℃及以上，带有蒸发源测温和功率调整系统，可以进行实时测温与控温。蒸发源配独立挡板。2 台智能温控及测温和功率调整闭环控温系统， 可以进行实时测温与控温，温度控制精度± 5℃ 。基片台（自转、加热）基片台电机驱动，旋转速度0-20 转/分钟可调；基片台配气动开合式挡板；基片台可加热，基片可加热温度300℃，温度可控。膜厚检测控制系统（1个水冷探头）膜厚仪用以实时监测镀膜速率和终厚，精度可达±1A （0.1nm）。 水路系统总进水与出水接制冷循环水机，需控温范围10～25 ℃。给电极、 分子泵、磁流体提供稳定的制冷循环水。 无