反射式显微膜厚测量仪招标公告
反射式显微膜厚测量仪招标公告
项目名称 | 反射式显微膜厚测量仪 | 项目编号 | XF-WSBX-******* |
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公告开始日期 | 2023-09-27 16:26:58 | 公告截止日期 | 2023-10-04 18:00:00 |
采购单位 | 浙江大学 | 付款方式 | 货到付款,甲方在到货验收后15日内向乙方一次性支付本项目的总额 |
联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 成交后15个工作日内 | 到货时间要求 | 成交后30个工作日内 |
预算总价 | ¥ 350,000.00 | ||
收货地址 | 浙江省杭州市浙江大学紫金港校区东五楼光及电磁波研究中心 超净室 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
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反射式显微膜厚测量仪 | 1 | 台 | 光电测量仪器 |
品牌 | Filmetrics |
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型号 | F40-UV |
预算单价 | ¥ 350,000.00 |
技术参数及配置要求 | 1、设备品牌:Filmetrics 设备型号:F40-UV 2、主要用途: 采用无损非接触式光学测量,测量薄膜厚度,辅助测量其光学常数(n和k值);测量分析纳米级薄膜膜层情况,改进镀膜工艺,监测膜层质量。 3、配置清单: 3.1、膜厚测量仪主体 3.2、15×紫外可见红外反射式镜头 3.3、UVX全波长显微镜(SS-Microscope-UVX-1) 4、详细技术要求: 4.1、仪器类别:反射式光谱测量(90°角) 4.2、测量氧化硅厚度测量范围:4nm-30um 4.3、测量n和k值最小厚度要求:50nm 4.4、*波长范围:190-1100nm 4.5、光纤通光波长:190-2200nm 4.6、准确度(较大者):1nm或0.2%(针对附带氧化硅厚度标准片) 4.7、精度:0.02nm(针对附带氧化硅厚度标准片) 4.8、稳定性:0.05nm(针对附带氧化硅厚度标准片) 4.9、*标准厚度片:配置厚度约*****A的氧化硅厚度标准片,带聚焦和硅反射率参考测试区域。 4.10、镜头:配置15X紫外可见红外均透的反射式镜头。 4.11、*光斑尺寸:17um 4.12、光源及寿命:外置氘灯(2000小时)和钨卤灯(1200小时) 4.13、离线分析软件:可授权离线分析模拟软件(不需要连接主机) 4.14、*厚度拟合算法:至少拥有Exact,Robust和FFT三种厚度拟合算法 4.15、色坐标测量:可实现光谱CIE-L*a*b* 色坐标测量 4.16、文件导出格式:CSV,fibhi,mls 4.17、材料库:拥有不小于100种不同材料的数据库,可自由导入新材料文件。 4.18、原始信号:可实时显示光强原始信息,用于信号聚焦。 4.19、反射率模拟:可进行不同镀膜材料的建模,模拟镀膜膜系的反射率曲线。 |
售后服务 | 电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后24小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品; |
浙江大学
2023-09-27 16:26:58
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