公示简要情况说明：

一、 采购人名称： 国科大杭州高等研究院

二、 进口产品公示编号： importedProduct202*****889*****

三、 采购项目名称： 激光直写曝光系统

四、 采购组织类型： 分散采购-分散委托中介

五、 采购项目概况：

六、 符合上述采购要求的进口产品产地、品牌（一家及以上）：

七、 申请理由： 目前国际市场上，占有率较大的生产商有欧洲Aresis、美国Quantum Design、德国海德堡Durham Magneto Optic。主要参数性能指标线宽尺寸最小0.3um，光强均匀性小于0.5%，支持灰度控制4095级.
国内市场上，占有率较大的生产商有希音微纳科技（深圳）有限公司、上海瑆创科技有限公司。主要参数性能指标线宽尺寸最小0.5um，光强均匀性小于3%。
国产设备无法满足单位需求，具体体现在：
1.线宽尺寸最小0.5um
2.不支持多级灰度控制
3.不具有机械缓震系统

八、 论证专业人员信息及意见：

专业人员对进口产品技术性能先进性、采购必要性的论证意见： 专家一：沈伟东
专家意见：拟采购的无掩模紫外激光直写系统设备应用于亚微米尺度的图形化工艺及掩模版制备工艺，可应用于在各种衬底上进行激光直接光刻工艺，具备激光直写光刻所要求的各项条件。该系统使用405nm激光源，可实现市场上最小的300nm特征尺寸，设备附带两个基于windows的应用程序，可以实现即时处理作业、作业队列、可自由定义的工艺和曝光配方、远程操作等功能。系统对准精度最高小于500nm，200mm/s的扫描速度，110×110mm的曝光面积。利用该设备可以进行无掩膜紫外激光进行曝光，并利用单点系统进行矢量书写，该类设备可以用于灰度光刻、微流控光刻、微纳结构等多种科学研究领域。因此，迫切需要无掩膜紫外激光直写系统，为我校各相关学科研究人员提供科学研究支持。
目前国际市场上，占有率较大的生产商有欧洲Aresis、美国Quantum Design、德国海德堡Durham Magneto Optic。主要参数性能指标线宽尺寸最小0.3um，光强均匀性小于0.5%，支持灰度控制4095级.
国内市场上，占有率较大的生产商有希音微纳科技（深圳）有限公司、上海瑆创科技有限公司。主要参数性能指标线宽尺寸最小0.5um，光强均匀性小于3%。
国产设备无法满足单位需求，具体体现在：
1.线宽尺寸最小0.5um
2.不支持多级灰度控制
3.不具有机械缓震系统
综上，结合国科大杭高院物光学院对于灰度光刻、微流控光刻、微纳结构加工的需求，建议采购进口设备。

专家二：章岳光
专家意见： 拟采购的无掩模紫外激光直写系统设备采用波长为405纳米的二极管激光器，具有市场上最小的300纳米激光分辨率。其升级375纳米激光源可以更好地兼容市面上的I-line光刻胶材，满足更高级别的应用需求。该设备配备备用光学模块，可降低机器停机时间。同时，人性化的软件设计提升了实际操作效率。
据市场调研，国际市场上的欧洲Aresis、美国Quantum Design和德国海德堡Durham Magneto Optic是占有率较大的生产商，其产品具备主要参数性能指标如下：线宽尺寸最小0.3um，格栅边缘粗糙度低于20nm，线宽均匀性小于50nm，相比之下，国内市场上的希音微纳科技（深圳）有限公司和上海瑆创科技有限公司等厂商的产品性能指标如下：线宽尺寸最小0.5um，格栅边缘粗糙度低于50nm，线宽均匀性小于100nm，光强均匀性小于3%，无法满足工艺精度需求
基于以上考虑，结合国科大杭高院物光学院对于亚微米尺度的图形化工艺及掩模版制备工艺的需求，建议采购进口设备。

专家三：李衎
专家意见：
拟采购的高分辨率无掩模直写系统设备在灰度光刻和半导体光刻中具有重要应用价值。在灰度光刻中，该设备能够实现多种不同周期的光栅组合，形成复杂的光栅结构，每个灰色小方块由不同周期的光栅组成。而在半导体光刻中，为了获得精确的结构特性，需要严格控制线宽的宽高比，而高分辨率无掩模直写系统可以对格栅进行高精度曝光。此外，设备配备紧凑型光学模块，将整个光路包含其中，使光路尽可能地缩短，提高指向稳定性，相比传统光学装置，性能更为优越。
根据搜集的资料，高分辨率无掩模直写系统的主要参数性能指标如下：
1.具备光束整形光学元件，获得最佳的光斑形状。
2.高数值孔径物镜，实现市场上最小的高质量激光束光斑。
3.650纳米红色激光控制自动对焦系统，可自动校正高度变化。
根据市场调研，该设备在国际市场上具备先进的技术和性能，主要供应商为欧洲Aresis、美国Quantum Design和德国海德堡Durham Magneto Optic。这些供应商的产品拥有可满足单位需求的主要参数性能指标，能实现更小的0.3um线宽尺寸，相较于国内的0.5um;其格栅边缘粗糙度仅为20nm，明显优于国内的50nm;线宽均匀性为50nm，是国内产品的一半；并且其光强均匀性为0.5%，远低于国内的3%。
综上，结合单位对灰度光刻和半导体光刻的需求，以及高分辨率无掩模直写系统的先进性能，建议采购进口设备。

专家四：卞殷旭
专家意见：无掩模紫外激光直写系统是一台高精度、高性能的光刻设备，用于微纳尺度下的图形化工艺制备和掩模版制备工艺。这台设备最小能实现300nm的特征尺寸，这对于亚微米级别的图形化工艺来说，是非常关键的。系统的对准精度能达到小于500nm，这确保了曝光的准确性。系统附带的基于Windows的应用程序不仅方便用户实时处理作业和管理作业队列，还支持自定义工艺和曝光配方，以及远程操作，大大提高了工作效率。该设备不仅可以用于传统的光刻工艺，还可以应用于灰度光刻、微流控光刻和微纳结构等前沿科研领域。采购此设备对于学校的相关学科研究确实具有重要的意义。它不仅可以满足当前的科研需求，还具有很高的前瞻性，可以支持更多的研究项目和开发更多的应用技术。
国内生产无掩模紫外激光直写系统的主要厂家有希音微纳科技（深圳）有限公司和上海瑆创科技有限公司，而在国际市场上，主导生产的厂家包括欧洲的Aresis、美国的Quantum Design以及德国的海德堡Durham Magneto Optic。对比国内与国外的主要技术参数，我们发现进口产品在多个关键性能参数上具有显著优势：进口产品能实现更小的0.3um线宽尺寸，相较于国内的0.5um;其格栅边缘粗糙度仅为20nm，明显优于国内的50nm;线宽均匀性为50nm，是国内产品的一半；并且其光强均匀性为0.5%，远低于国内的3%。这些数据明确指出，进口产品在精度、图形质量以及生产一致性上都展现出了较高的水平。
综上，结合国科大杭高院物光学院对于灰度光刻、微流控光刻、微纳结构加工的需求，建议采购进口设备。

专家五：孙鼎屹
专家意见：该商品未列入商务部《限制进口机电产品目录》和《中国禁止进口限制进口技术目录》可以采购进出口产品

九、 其它事项：

1、本项目公告期限为3个工作日，供应商对该项目拟采购进口产品及其理由和相关需求有异议的，可以在公示期限内（截止时间为本公示发布之日后的第4个工作日），以书面形式向采购人及同级财政监管部门提出异议。

2、其他事项

十、 联系方式：

1、 采购人名称：国科大杭州高等研究院

联系人： 张悦

联系电话：186*****087

传真： /

地址： 国科大杭高院13-308

2、 同级政府采购监督管理部门名称：

联系人： 朱女士/王女士

监管部门电话： 0571-********

传真：

地址： 杭州市上城区四季青街道新业路市民之家G03办公室