一、项目名称：蜂巢能源科技股份有限公司四期建设理化实验室扫描电镜项目

二、项目概况与招标范围

1.项目概况

金坛四期建设新工厂，理化实验室计划采购1台扫描电镜，用来拍摄正负极主材的形貌、极片、隔膜的形貌及定量分析。

2.招标范围

本设备采取交钥匙工程形式，主要内容为安装、调试、计量、培训、售后服务等。

理化实验室扫描电镜主要配置：肖特基热场发射扫描电镜主机一套；X射线能谱仪一套；探测面积≥65mm；计算机系统一套（要求RAM 16GB，HDD 1TB）24寸双显示器，win10 64位，分别标配电镜控制软件、能谱分析软件）；系统桌一个；机械泵一套； 配备真空转移仓；标准工具箱一个；循环冷却水系统一套；必要的备品备件（光阑、导电胶、灯丝等）；

本设备看不导电材质的时候，需要配进口离子溅射仪（配Au靶和Pt靶）设备；除标配靶材以外还需配2把Au靶和2把Pt靶；需配备便于控制的操作面板或多功能键盘类似的设备（利于精细实用操作）；

对周围磁场进行检测；提供软件终身免费升级。

三、技术要求

交货期：合同签订之日起12个月；

加速电压：0.02～30KV；二次电子像分辨率：≤1.0nm (15 kV)， ≤1.6nm (1kV)；

电子枪：肖特基热场发射，具有自动烘烤、自动启动、智能自动电子枪对中

放大倍率范围：10～1,000,000倍（放大倍数粗、细模式连续可调，具有随着工作距离或加速电压的变化自动精确校正、补偿、预设等功能）；

电子束流范围：4pA～40nA，束流稳定性：0.2%/h，适合长时间的分析工作（电子枪寿命不低于2年）；

透镜系统：组合透镜系统（如电磁/静电式透镜组合等），满足对磁性样品进行高分辨率成像；

设备探测器类型：镜筒内二次电子探测器，样品室二次电子探测器，背散射电子探测器，样品室CCD摄像机或其他辅助成像系统；

样品室真空度：优于10-4Pa数量级；抽真空时间不大于5分钟，真空泵系统要求1个机械泵和1个分子泵；具有突然断电、断水、真空状态不良保护措施；

电子枪室真空度：优于10-7Pa数量级；具有突然断电、断水、真空状态不良保护措施；

样品室最大可观察样品直径≥100mm；样品台采用全自动高精度五轴马达驱动；移动范围实现X=100mm、Y=110mm、Z=50mm、T=-5~70°、R=360°连续旋转，具备样品防撞报警功能；

预留其它附件接口，便于日后扩展；

信号选择：二次电子信号、背散射电子信号等；任何两个通道信号都可以进行混合，以便获取更佳的图像效果；

数字图像处理系统：存储分辨率；不小于 5k x 3k像素（最大），图像显示分辨率不小于1024 x768像素；图像记录：TIFF、BMP或JPEG可选，具有数据区、状态显示、图像注释和测量功能；

能谱仪主要技术参数：

探测器：高稳定型硅漂移探头，晶体面积80mm2，有效探测面积：65mm2，高分子超薄窗设计，制冷方式：电制冷型；

探测器可软件控制，马达驱动，自动伸缩；

重元素能量分辨率：Mn Ka 保证优于127eV(@计数率 130，000cps)；保证符合 ISO*****:2012标准。 轻元素能量分辨率：F Ka保证优于64eV(@计数率130，000cps)；能量分辨率：C Ka保证优于56eV(@计数率130,000cps)；保证符合ISO *****:2012标准。谱峰漂移速率：当计数率从1000CPS变化到******CPS时, 峰的位置漂移小于1ev。谱峰无需手动校准；

采用独立封装的第一级FET场效应管和SDD晶体，从而保证FET和SDD共同实现性能最优化。彻底消除体内集成的场效应管抗X射线辐射性能差的问题；

能谱控制软件具备定性定量分析、全谱智能元素定量面分布分析、全谱智能元素定量线扫描分析、电子束任意定位分析、定量最优化分析等功能；

设备主要配置要求：

肖特基热场发射扫描电镜主机一套（整机原装进口）；

射线能谱仪一套：探测面积≥65mm2；

背散射探头一套；

样品室CCD摄像机或其他辅助成像系统；

计算机系统2套（要求RAM 16GB，HDD 2TB，i7十代）24寸双显示器，win10 64位，分别标配电镜控制软件、能谱分析软件）；

系统桌一个；

配备真空转移仓；

标准工具箱一个；

循环冷却水系统一套；

机械泵一个；

必要的备品备件（光阑、导电胶、灯丝、样品座（每个类型各1套）等）；

本设备看不导电材质的时候，需要配一套离子溅射仪（配Au靶和Pt靶）设备；除标配靶材以外还需配2个Au靶和2个Pt靶；

需配备便于控制的操作面板或多功能键盘类似的设备（利于精细实用操作）;

对周围磁场进行检测；

提供软件终身免费升级；

每套设备4个线下培训名额。

截面抛光仪技术要求：

方案及性能要求：氩离子抛光仪是以氩气作为工作气体，经极化后产生的氩离子作为加工源，在加速电压的作用下，形成氩离子束，对样品表面进行柔性研磨、切割的样品前处理设备，由于是在原子级别进行的抛光，所以不会对样品表面造成机械划伤和严重的应力层，达到了样品加工效果和保证样品原位状态的双重目的。

工作环境温度：①室温：18~ 28℃②电源：100-240 VAC，50/60HZ；

技术指标要求：

离子枪：独立可调节的聚焦氩离子源；

抛光速度：不小于500μm/h（以Si试样计算）；

加速电压范围：2 ~ 8kV；

离子枪角度：具备角度可调功能，实现样品原位二次加工；

抛光区域调节：具有抛光区域可调功能，可原位实现增大抛光面积；

抛光模式：具有截面和平面两种抛光模式；

冷台：最低工作温度为-120°C；

简易工作模式：具备存储已选参数功能的配方式设计；

样品更换时间：样品交换时间不多于5min；

如果有消耗品，请提供3年的消耗品及备件(根据正常使用量需求提供挡板的数量并标明国产和进口挡板的价格)；

技术支持与配合：提供技术人员情况说明；

系统控制：触摸屏控制；配备真空转移系统；

后期使用成本描述：提供备品备件、易损件价格明细；

配备真空转移装置；

环保要求描述：

投标仪器选用材料满足ISO ***** 环保标准，对操作人员身体不能有伤害。

设备工作噪音值小于50 dB (在距离设备正向1m高度1.5m处测量),有害成分不得超过我国有关部门规定的标准。

否决项

品牌：整机原装进口。

SEM-EDS量程&准确度：

1.加速电压范围：0.02～30KV，二次电子像分辨率：≤1.0nm (15 kV)， ≤1.6nm (1kV)；

2.放大倍率范围：10～1,000,000倍；

3.电子束流范围：4pA～20nA，束流稳定性：0.2%/h，适合长时间的分析工作；

4.电子发射源：Schottky型场发射（热场发射）电子源，寿命需保证2年以上；

观测方式 主要硬件/软件配置：

1.探测器：镜筒内二次电子探测器，样品室二次电子探测器，背散射电子探测器，样品室



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