采购项目名称：电子束蒸发镀膜系统
采购单位：北京市海淀区清华大学集成电路学院
付款方式：合同签订后70%，验收合格后30%
签约时间要求：成交后7个工作日内
交货时间要求：签订合同后14个工作日内
交货地址：北京市海淀区清华大学集成电路学院
技术参数及配置要求：1、真空室： 1.1、真空腔体尺寸：直径450×高720mm，采用U型腔体设计。 1.2、真空室材料：整个真空室采用 奥氏体304 不锈钢材料制造，内外表面抛光，极限真空度高。 1.3、真空室结构：真空室四周配有不锈钢防污染屏蔽板；前开门后置抽气系统结构，四壁壳体外壳水冷，采用不锈钢水冷槽通水冷却。 1.4、观察窗：Φ100mm观察窗2个，观察窗内有遮挡活动板，配有两套防辐射射玻璃（一套备用），独特的移位偏光观察窗设计，可有效的阻挡在蒸发过程中观察腔体内工作场景时强光对眼睛的刺伤。 1.5、CF35陶瓷封接引线法兰：2个（照明及内烘烤引线1个、预留空置4芯电极法兰1个） 1.6、石英晶振膜厚仪水冷探头1个 2、工件架旋转升降水冷盘一套： 2.1、样品盘采用调速电机调节转速、磁流体密封；3 到 40rpm 无级调速； 2.2、水冷样品盘：样品盘可自动控制升降和旋转功能；样品盘可配置水冷样品台，水冷样品台可对样品进行冷却降温，样品台可放置直径≥4英寸基片一片，最大支持6英寸基片（但需在方案阶段明确）； 2.3、基片与蒸发源之间距离450～550mm可调，由腔外步进电机在线调节高度自动控制波纹管调节机构控制； 3、离子轰击电源（可预留安装口位置以备后用在安装） 3.1、离子轰击：轰击电压3000V,电流160mA以上。可清洗样品表面。 3.2、配轰击铝棒1根 4、蒸发源：两组金属蒸发源坩埚，蒸发功率3KW； 电子束蒸发源： 4.1、超高真空仿日本焦耳式E型电子枪； 4.2、270°E型电子枪及高压电源，电子枪功率0--10KW可调；带预熔功能； 4.3、电子枪阳极电压范围：-4--10 kv； 4.4、电子束可二维扫描调节，最大扫描正负15mm（X，Y）； 4.5、六工位水冷式电动坩埚；每穴容积20cc; 4.6、可调角度气动控制蒸发挡板，采用磁流体密封； 4.7、电子枪配有触摸屏，可远控； 4.8、带有高压灭弧自动复位功能。 5、真空抽气系统 5.1、中科科仪分子泵与控制电源作为主泵加浙江鲍斯双级旋片式机械真空泵为前级和维持泵：极限真空可优于5.0×10-5Pa，真空漏率≤10-7Pa.l/s，真空室从大气到抽到≤5.0×10-4Pa，小于30min。 5.2、分子泵与真空室连接采用DN250气动控制主阀门； 5.3、机械泵和分子泵连接采用不锈钢金属波纹管； 5.4、双级旋片机械真空泵运行成本低，能耗低，噪声低，设计紧凑，即插即用，抽速最高可达9L/S，性能稳定可靠！中科科仪分子泵的优点是国产第一品牌泵组，国有企业，性能优异，泵组使用稳定等优点，对氮气抽速≥1600 L/s； 5.5、系统漏率：系统停泵关机12小时后，真空室的真空度≤7Pa。 6、石英晶体测厚仪： 本系统采用英富康SQC310石英晶体振荡膜厚监控仪控制单探头采集膜厚信息 ◇用于监控镀膜蒸发速率及控制膜层物理厚度 ◇配1个石英晶振水冷探头和10片石英晶振片； ◇监测膜厚显示范围：0～99μ9999? ◇厚度分辨率：1? ◇速率显示分辨率： 0～9999.9? ◇控制精度： 0.01? ◇监测时间显示范围：1 分～99 小时 7、真空测量系统： 莱宝PTR90RN全量程皮拉尼真空计 8、水冷系统 配备水冷循环系统：满足设备需求（制冷量≥2.5KW，噪音≤60dB） 9、其他： 9.1不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等 若干 9.2产品相关的金属密封铜圈及氟橡胶密封圈 各1套 9.3电子枪灯丝 20个 9.4无氧铜坩埚、石墨坩埚 各10 个 9.5石英晶振片 10个 9.6无油静音空压机一台：储气罐≥15L；
质保期：60个月
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