磁控溅射沉积系统招标公告
磁控溅射沉积系统招标公告
| 基本信息： | |
| 申购单主题： | 磁控溅射沉积系统 |
| 申购单类型： | 竞价类 |
| 设备类别： | 专用设备 |
| 使用币种： | 人民币 |
| 竞价开始时间： | 2016-05-17 09:32 |
| 竞价结束时间： | 2016-05-27 09:32 |
| 申购备注： | |
| 申购设备详情： |
| 磁控溅射沉积系统 | 1 | * | * | 是 | 按行业标准提供服务 | 1. 极限真空度：≤8x10-6Pa (经烘烤除气后)；系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6.6x10-4 Pa；停泵关机12小时后真空度：≤2 Pa；2. 溅射真空室：圆筒型真空室尺寸Ф450mmx350mm，电动上升盖结构，可内烘烤100～150℃，优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；3. 磁控溅射靶：Φ75mm，三套，其中一个可以溅射磁性材料，靶与样品距离90～110mm可调；4. 样品台：两套；一套可实现平面样品（Φ150mm基片）表面溅射，基片可连续回转，样品台升降距离0-150mm，基片可以加负偏压-200v，基片可加热最高至600℃，由热电偶闭环反馈控制；一套可实现圆柱样品（可放置Φ5-Φ50mm，最长不超过150mm）的圆柱面溅射；5. 两路进口流量控制器（100sccm,50sccm）；分子泵（抽速680L/S，德国普发+机械泵（9L/S）抽气系统；6. 自动匹配射频电源（600w）两台；直流电源（1000w），一台7. 满足设备需求冷却水循环机组：1台 | 无 |
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