高性能旋涂系统待竞价详细
高性能旋涂系统待竞价详细
| 申购单主题： | 高性能旋涂系统 | 申购单位： | 环境科学与工程学院 | ||
| 报价类型： | 国内含税价 | 使用币种： | 人民币 | 公示时间： | 2024-04-17 09:59:27 |
| 申购备注： |
| 设备名称 | 品牌厂商 | 型号 | 数量 | 售后服务 | ||
| 高性能旋涂系统 | 中国科学院微电子研究所 | KW-4T | 1 | |||
| 规格 | ||||||
转速：250-9000 RPM转速稳定性：1RPM旋涂均匀性：（一致性） ＜1%（片内）；＜1%（片间）基片尺寸：Φ5-Φ100mm 圆片，最大 100mm×100mm 方片显示/程序控制：全触摸屏操作，快速启动，人性化界面。6 步工艺调速设计，0-1800s 时间可调，专业用户最适合的的需求整机尺寸：（mm3） 280×220×160工艺支持：依托中科院微电子所工艺平台，提供全方位微纳加工工艺支持适应材料/工艺支持 ：适合硅片、玻璃、石英、金属、GaAs，GaN，InP 等各种材料，工艺服务特殊夹具定制：20 年特殊夹具设计经验，完美匹配超薄、异形、脆性易碎样品电机功率：40W抽气速率：＞60L/min 质量保证：中科院微电子所独家设计制造，通过 ISO9000 质量体系认证 | ||||||
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