高真空多靶磁控溅射镀膜机招标公告
高真空多靶磁控溅射镀膜机招标公告
| 项目名称 | 高真空多靶磁控溅射镀膜机 | 项目编号 | XF-WSBX-******* |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 2024-05-23 11:29:03 | 公告截止日期 | 2024-05-30 10:00:00 |
| 采购单位 | 浙江大学 | 付款方式 | 货到付款，甲方在到货验收后15日内向乙方一次性支付本项目的总额 |
| 联系人 | 成交后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 成交后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后3个工作日内 | 到货时间要求 | 成交后60个工作日内 |
| 预算总价 | ￥ 200,000.00 | ||
| 收货地址 | 浙江大学玉泉校区热能工程研究所 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 高真空多靶磁控溅射镀膜机 | 1 | 台 | 金属喷涂设备 |
| 预算单价 | ￥ 200,000.00 |
|---|---|
| 技术参数及配置要求 | 1.真空腔室；φ350×H350mm（实际以设计尺寸为主），SUS304优质不锈钢真空腔室，顶板焊水线； 2.真空系统；复合分子泵+直联高速旋片式真空泵+高真空阀门+数显复合真空计； 3.真空极限；6.0×10-5Pa（设备空载，抽真空24小时）; 4.设备升压率：≤0.8Pa/h（12小时平均值）；设备保压：停泵12小时后，设备真空度≤10Pa； 5.抽速；从大气抽至5.0×10-3Pa≤15min（设备空载）； 6.基片台；基片台尺寸Φ120mm，最大样品尺寸小于Φ120mm；配有基片台挡板；旋转转速0～20转/分钟，可调可控；基片台与腔室绝缘设计，可加偏压电源；配备水冷基片台（间接水冷）基片台在下。 7.溅射靶及电源；配置2套2英寸永磁共焦磁控（强磁）溅射靶（靶角度、靶基距手动可调），向下溅射；预留1只靶位，磁控靶配有气动挡板结构；工作方式：各靶可独立/顺次/共同工作，采用磁控靶从上向下溅射镀膜 电源；直流脉冲溅射电源1kW，数字化控制及显示，1台； 直流电源， 数字化控制及显示，1台； 脉冲偏压电源：-1kV， 数字化控制及显示，1台； 8.工作气路系统；质量流量控制器及量程范围：Ar，100sccm；N2，20sccm； 9.膜厚不均匀性；≤±5%（单靶镀膜，基片台Φ75mm范围内）； 10.控制方式；PLC+触摸屏控制； 11.报警及保护；对缺水进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统； |
| 售后服务 | 服务网点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后4小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;送货至浙江大学玉泉校区热能所B301实验室安装; |
浙江大学
2024-05-23 11:29:03
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