西北工业大学受用户委托，对机电学院XeF2/SAM刻蚀释放系统项目以公开招标方式进行采购，现邀请合格的投标人前来投标。

1. 设备用途：

用于SiO2的各向同性刻蚀，可以刻蚀出悬臂梁、深孔等结构；

用于芯片的表面改性，可以对硅片、玻璃片等基片进行处理，对其表面进行改性。

2、技术要求

本设备为XeF2/SAM刻蚀沉积系统，主要用于硅的各向异性刻蚀和基片的表面改性，是MEMS实验室广泛应用的设备之一，它主要由XeF2储存罐、N2储存罐工作腔、真空泵、流量阀、操控触摸屏和温度控制系统等构成。SAM（Self-Assembled Monolayers）用于对基片表面进行处理（表面改性），以获得需要的表面特性。

1水电气空间

1 实验室预留空间：1 x 1m2，重量不大于150kg；

2 功率：3 x 380V / 50Hz, 16 A。

3 N2：压力6-8bar（西工大提供）；

4 XeF2：固体，存放在铝储存罐中，由供货方提供；

5 废气和泵尾气需要由排风口排除室外，并保持通风。

2刻蚀和表面处理

1. 基片尺寸：4、6和8英寸；

2. 需要各种气动阀和针阀，控制N2、XeF2等压力；

3. 工作腔压力为20 mTorr到 10 Torr；

4. 刻蚀速率：0.1-15mm/min；

5. 6英寸基片上的刻蚀一致性和重复性达到±3%；

6. 曝光面积为10%的4英寸硅片，1gXeF2可以达到的刻蚀深度为20mm；

7. 可以在基片表面沉积单分子层（SAM），基片夹持器承受温度可达200°C；

8. 带触摸屏控制刻蚀程序；

9. 带加热单元，可将基片加热至250°C；

10. 可以实现低压硅烷化处理。

3其他

1. 货期：3个月；包含技术培训及培训费用；

2. 保修期：验收后12个月；

3. 售后服务：终身维修和技术支持，我方支付维修和差旅费；

维修响应时间：5个工作日（不包括获得签证时间）。

一、项目名称：XeF2/SAM刻蚀释放系统

二、招标编号：西工大招（采）货－2016-039号

三、招标数量：1套 预算：70万人民币

四、 技术规格：详见技术参数

五、 交货期： 自中标通知书发出之日起60天

六、 资格审查：本项目采用资格预审方式进行

七、 投标人资格要求：

1.投标人应具有国内独立法人资格，符合《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定：“具有独立承担民事责任的能力；具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度；具有履行合同所必需的设备和专业技术能力；有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录；在前三年内的经营活动中没有重大违法记录；符合法律、行政法规规定的其他条件”。

2.具有较强的西安本地售后服务保障体系，配有较强的专业技术队伍，能提供快速的售后服务响应。

3. 所投的主要产品须有针对本次投标的厂家专项授权书（截、开标时提供原件）

4.本项目不接受联合体投标。

八、报名

如果投标单位法定代表人亲自参与报名，则须提供法定代表人身份证明书原件及法定代表人身份证原件；如果投标单位被授权人参与报名，则须提供法定代表人授权书原件及被授权代理人身份证原件。

九、资格预审时须按以下顺序提供资料的原件及复印件（复印件加盖公司红章）

1.法人授权委托书原件（法定代表人、被授权人签字和被授权人身份证原件）

2.营业执照副本、税务登记证副本、组织机构代码副本或三证合一

3. 投标人若为境外企业须提供外国（地区）企业常驻代表机构登记证、公司注册证书、商业登记证三证中任一证均可

4.投标人提供2014年以来同类项目合同（复印件加盖红章）1份（以合同签订日期为准）

报名时间：

2016年7月21日－7月27日（法定公休日、法定节假日除外）

每天上午8：30－11：30 下午15：00－17：00

九、资格预审说明：

*本项目采用资格预审方式进行，资格预审费200元，报名时交纳。招标人对投标报名单位进行资格预审，只有资格预审合格的单位才能参加投标，本项目具体资格预审时间、招标文件领取时间及截、开标时间另行通知。

地址：西安市友谊西路127号西工大研究生东馆517室

具体招标要求详见招标文件

十一、联系人及电话

技 术：冯建国 159*****755

商 务：段雅安 ********635

地 址：西安市友谊西路127号西工大研究生东馆517室

西北工业大学招标与设备采购中心

2016年7月21日

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