上海市真空磁控溅射镀膜设备采购项目国际招标公告1包
上海市真空磁控溅射镀膜设备采购项目国际招标公告1包
上海政采项目管理有限公司受招标人委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标,于2024-07-08在公告。本次招标采用传统招标方式,现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况:拟采购真空磁控溅射镀膜设备,能够实现8英寸基底的薄膜沉积,能制备厚度差异在±5%(8英寸)的硫系化合物、氧化物,Au,Ag,Ti,SiO2等材料的薄膜沉积。配备至少1个直流和1个射频电源,可以实现2个靶位的共溅射沉积。具有氩等离子体轰击,实现轻微刻蚀。
实验室科研加工半导体材料应用,主要用于硫系化合物,氧化铟锡,Au,Ag,Ti,SiO2等材料在基片上的薄膜沉积。
资金到位或资金来源落实情况:已落实
项目已具备招标条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目编号:3109-244Z********
招标项目名称:真空磁控溅射镀膜设备采购项目
项目实施地点:中国上海市
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 真空磁控溅射镀膜设备 | 1 | 溅射腔室、搬运室、气路系统、真空系统、控制等单元,系统可由设备前侧的操作触摸屏通过PLC进行控制。 | 预算金额:300人民币 万元最高限价:294人民币 万元合同履行期限:2024年10月31日之前完成交付 |
标签: 真空磁控溅射
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