磁控溅射成膜机国际招标公告1/87
磁控溅射成膜机国际招标公告1/87
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 磁控溅射成膜机 | 1台 | (1)本装置用于G6 LTPS/LTPO(OLED)制程,进行物理气相沉积工艺; (2)基板尺寸:1500mm(宽)*1850mm(长);基板厚度:0.4~0.7mm; (3)设备类型:枚叶式;设备可用于IGZO膜层生产。投标文件中需提供设备结构详细说明。 | 0730-244*****0007-87 |
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