华南师范大学华南先进光电子研究院采购3D无掩膜光刻设备
华南师范大学华南先进光电子研究院采购3D无掩膜光刻设备
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购日期 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 华南师范大学华南先进光电子研究院采购3D无掩膜光刻设备 | 标的名称：3D无掩膜光刻设备 标的数量：1.00 主要功能或目标：满足学院对无掩膜光刻制备微纳结构的制备，尤其是在面板研发制造中的需求。该设备需将数字图像直接投影到光敏材料上，形成所需的微纳结构，能够实现纳米到微米级别的分辨率。 需满足的要求：1. 刻写面积不小于200mm*200 mm； 2. 405nm高功率激光光源系统； 3. 第二套光源波长为375nm; 4. 光源使用寿命不低于*****小时； 5. 成像光学分辨率为100nm； 6. 灰度光刻与3D刻蚀能力，每像素点至少256阶可调； 7. 刻写线宽分辨率分别为0.4um, 1.5um, 4um和8um; 8. 对准及套刻精度≤0.5um | 按规定落实。 | *******.00 | 2024年09月 |
标签: 3D
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