原子层沉积系统
原子层沉积系统
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购日期 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 原子层沉积系统采购 | 标的名称：原子层沉积系统 标的数量：1.00 主要功能或目标：该设备应同时具有T-ALD和PEALD功能，且两种功能能够自动切换来制备周期性交替薄膜。可加工8寸及8寸以下硅片样品，?4寸硅片生长重复性及厚度不均匀性控制在一定范围内。? 需满足的要求：通过热原子层沉积（T-ALD）和等离子体增强原子层沉积（PEALD）制备致密的、纳米尺度的氧化物薄膜, 例如Al2O3、HfO2、TiO2等薄膜。等离子体源须采用真远程等离子体方式，以减少对样品的表面损伤，且制备温度可低于100℃。兼容8英寸及以下的晶圆和不规则碎片。配备预真空室，可自动进行样品传送。载物台最高加热温度≥500℃；配置防腐蚀设计的罗茨干泵，抽速≥550 m3/hr等。 | 因确需使用不可替代的专利、专有技术，基础设施限制，或者提供特定公共服务等原因，只能从中小企业之外的供应商处采购的。 | *******.00 | 2025年04月 |
标签: 原子层沉积
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