脉冲激光沉积设备
脉冲激光沉积设备
序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购日期 | 备注 |
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1 | 华南师范大学采购脉冲激光沉积设备项目 | 标的名称:脉冲激光沉积设备 标的数量:1.00 主要功能或目标:激光沉积仪是最新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室制备薄膜材料和薄膜器件等。 需满足的要求:极限真空:2×10-6 Pa;本底真空:小于6×10-3 Pa;生长温度:室温-850℃;靶材尺寸:直径 50-60mm;反应氛围:氧气、氮气;样品要求:直径小于30mm;激光器参数:波长: 248nm,脉冲能量≥750mJ,平均功率:7.5W,频率: 10Hz, 脉冲宽度: 25ns,能量稳定性:≤0.75%,光斑: 24×10mm2, 光束发散角:≤3×1 mrad2 | 按规定落实 | *******.00 | 2024年09月 |
标签: 脉冲激光沉积
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