采购项目名称：原子层沉积系统
采购单位：北京市清华大学
付款方式：合同签订后50%，验收合格后50%
签约时间要求：成交后5个工作日内
交货时间要求：签订合同后45个工作日内
交货地址：北京市清华大学
技术参数及配置要求：反应腔可以涂覆面积不小于6英寸，厚度不小于6mm的样品。 采用DualO氮气保护的双 O-Ring 高温密封系统，隔绝其他气体渗漏。 基底加热温度室温到400℃可控，控制精度±1℃; 腔体烘烤温度室温到200℃可控，控制精度±1℃。 沉积模式包括以下2种工作模式：高速沉积的连续模式、沉积超高宽深比结构的停流模式。 前驱体源需包含2路：1路为常温源，1路为加热源。加热源加热温度室温到200℃可控，控制精度±1℃，并配备高温手动阀。前驱体源应至少预留六路接口。 标准前驱体源瓶体积不小于50cc，包含2路气源，其中1路为常温源可接水/臭氧/氧气/氨气/H2S源等，用于制备氧化物、氮化物和硫化物。任意一路加热源可接相关前驱体源。 前驱体管路全部采用316L不锈钢EP级管路，所有管路加热温度室温到150℃可控。 原子层沉积阀每一路前驱体配置一个专用高速高温原子层沉积阀；原子层沉积阀加热温度室温到150℃可控。 范围真空规测量范围应该覆盖2x10-4到10+3torr。 排气管路加热温度室温到150℃可控；配置截止阀一个，加热温度室温到150℃可控。 设备需要高浓度臭氧发生器，包括管路，裂解器附件，最高产量大于15g/h，功率0~300W可调。 控制硬件应采用PLC控制系统。 控制软件应采用专用软件全自动控制加热、流量等全部沉积过程，并可以实时监控温度、压强等。 应采用真空机械泵连接相关管路。
质保期：36个月
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