磁控溅射设备清采比选号采购公告
磁控溅射设备清采比选号采购公告
采购项目名称：磁控溅射设备
采购单位：北京市清华大学
付款方式：合同签订后70%，验收合格后30%
签约时间要求：成交后5个工作日内
交货时间要求：签订合同后3个工作日内
交货地址：北京市清华大学
技术参数及配置要求：磁控溅射系统：1套 含1)磁控靶：4英寸永磁靶1套，预留一个4寸靶位； 2)磁控靶电源：射频电源（500W）1台；3)溅距：靶与样品距离80～180mm手动连续可调，并有调位距离指示；4)隔离：靶配有屏蔽罩，以避免靶材之间的交叉污染。样品台系统：可升降，可旋转（采用步进电机联动，转速0～20转／分连续可调）；配气系统：1套；可用于纳米级单层及多层功能膜—硬质膜、金属膜、半导体膜和介质膜等的制备，并且具有较好的均匀性。
质保期：12个月
供应商报名地址：点击进入
标签: 磁控溅射
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