双腔室高真空高速离子溅射仪招标公告
双腔室高真空高速离子溅射仪招标公告
为便于供应商了解采购信息，根据《物资服务集中采购需求管理暂行办法》等有关规定，现将双腔室高真空高速离子溅射仪的采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 需求概况 | 初步技术参数 | 预算金额(万元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 双腔室高真空高速离子溅射仪 | 采购内容：双腔室高真空高速离子溅射仪 采购数量：1台 主要功能或目标：双腔室高真空高速离子溅射仪可在高真空环境或反应气氛环境下对样品进行物理刻蚀和镀膜等操作。 需满足的要求：具有离子刻蚀腔室和磁控溅射腔室，以及腔室间基底传送能力。 | （1）高真空双腔：包括刻蚀腔室和溅射腔室。（2）最高本底真空：可达5×10-8Torr。（3）具有基板加热功能：加热器最高温度不低于800oC。（4）离子束刻蚀：最高离子束电流不低于200mA，Ф100基板刻蚀均匀性小于±5%。（5）磁控溅射：具备直流和射频电源，基板与靶材距离连续可调。（6）腔室间基底传送：高度可靠和可重复的基底传输能力。 | 300.00 | 2024年11月 | 无 |
注：1.本次意向公开的采购意向仅作为供应商了解初步采购安排的参考，采购项目具体情况以最终发布的采购公告和采购文件为准；
2.供应商可以通过采购平台反馈参与意向和意见建议。
联系人：方振翰、刘志明
联系方式：010-********
标签: 采购意向 真空
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