CrAu蒸镀剥离招标公告
CrAu蒸镀剥离招标公告
| 基本信息： | |
| 申购单主题： | CrAu蒸镀剥离 |
| 申购单类型： | 竞价类 |
| 设备类别： | 其他 |
| 使用币种： | 人民币 |
| 竞价开始时间： | 2016-11-19 11:35 |
| 竞价结束时间： | 2016-11-25 10:00 |
| 申购备注： | |
| 申购设备详情： |
| 设备名称 | 数量 | 单位 | 品牌厂商 | 型号 | 是否标配 | 售后服务 | 规格配置 | 附件 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CrAu蒸镀剥离 | 1 | 无指定 | 无 | 是 | 无 | 委托加工的内容：1.） 总共需要3块5英寸的掩模板做光刻；2. ）第一块掩模板用于在3片四英寸的二氧化硅片子做光刻金属剥离工艺，每个片子大概需要划9刀，总共27刀；3.） 第二块掩模板用于在3片四英寸二氧化硅片子以及2块10cm*10cm的玻璃上做光刻金属剥离工艺，每个片子大概需要划10刀，总共60刀；4.） 第三块掩模板用于在5片4cm*5cm的硅片上（表面有一层薄膜，务必不要让其脱落）做光刻金属剥离工艺，每个片子大概需要划2刀，总共10刀.5.） 上述光刻后的片子都需要先蒸镀10纳米的铬，再蒸镀100nm的金，最后通过剥离工艺得到电极图形。6.） 所有掩模板及片子都由我方这边提供。具体工艺：1. 基片清洗；2. 光刻（三种光刻版）；3. 蒸发CrAu，Cr厚度10nm，Au厚度100nm；4. 剥离；5. 基片清洗；6. 划片。 | 无 |
标签: 剥离
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