原子层沉积设备(薄膜封装(开发))(ALD(TFE(R&D))招标公告
原子层沉积设备(薄膜封装(开发))(ALD(TFE(R&D))招标公告
中国电子进出口总公司受招标人委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标,于2017-07-10在公告。本次招标采用传统招标方式,现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况:第6代有源矩阵有机发光显示器件(AMOLED)面板生产线项目
资金到位或资金来源落实情况:资金已到位
项目已具备招标条件的说明:具备招标条件
2、招标内容
招标项目编号:0714-164YUNGU0001/25
招标项目名称:第6代有源矩阵有机发光显示器件(AMOLED)面板生产线项目
项目实施地点:中国河北省
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
0714-164YUNGU0001/25 | 等离子加强气相沉积设备(薄膜封装(开发))(PECVD(TFE(R&D)) | 1台 | 等离子体加强气相沉积设备,用于沉积SiNx/SiOx/SiON/SiOC,工艺温度<100℃条件下,实现低水氧透过率、高膜层质量及均匀性。 | 招标文件售价:人民币5000元或美元850元 |
0714-164YUNGU0001/26 | 原子层沉积设备(薄膜封装(开发))(ALD(TFE(R&D)) | 1台 | 本设备用于用于沉积 SiOx和Al2O3薄膜封装膜层,工艺温度<100℃条件下,实现低水氧透过率、高膜层质量及均匀性。 | 招标文件售价:人民币3000元或美元500元 |
0714-164YUNGU0001/27 | 涂布机(开发) PI Coater(R&D) | 1台 | PI清洗、涂布、加热干燥设备 | 招标文件售价:人民币5000元或美元850元 |
0714-164YUNGU0001/18 | 等离子加强气相沉积设备(开发用)(PECVD(R&D)) | 1台 | 本设备用于沉积SiO、SiN、a-Si(单层膜/多层膜),工艺温度≤500℃条件下,实现高品质、大面积均匀成膜。 | 招标文件售价:人民币10000元或美元1650元 |
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