第二十六批科研设备竞争招标公告
第二十六批科研设备竞争招标公告
技术参数:
★样品尺寸:5mmx5mm~20mmx20mm
★样品厚度:<3mm
★测试温度:77K~425K
★测试材质:半导体类材质、如:Si,SiGe,SiC,ZnO,GaAs,InGaAs,InP,GaN,ITO等所有半导体薄膜(P型和N型)
★磁场强度:0.68Tesla
稳定性:±1%(超过一年)
均匀度:±1%(从中心点至30mm直径圆范围内)
★磁极间隙:20mm
★输入电流:1nA~20mA
★霍尔电压范围:1μVto12V
★电阻率(?.㎝):10-5to107
★迁移率(cm2/Volt.sec):1~107
★载流子浓度(1/cm-3):107~1021
尺寸:主机W400*H360*D200mm
磁装置W140*H110mm*D114mm
★可根据样品尺寸提供各类型测试探针;
★系统可升级高低温控制系统,升级后高温可达773K;
★单一主机能够在常温环境下配合可调磁场装置进行测试(组件为可选配件);
★单一主机可在常温环境下配合变磁场装置(永磁)测试,并可提供可调范围为0.35~0.8T变磁场装置(组件为可选配件);
★系统模块化设计、USB数据接口,高速传输;
★主机可配合其它真空磁场探针测试系统进行高磁场强度(垂直/水平)的霍尔效应测试;
★主机可配合其它单(垂直/水平)/双磁场探针测试系统进行高磁场强度的霍尔效应测试;
★系统需使用空气压缩装置驱动磁极切换,有效减少电动装置对霍尔系数测试的影响;
★与系统相关的磁场环境类设备需通过CE认证;
其余详见采购文件。
★1、波长扫描速度:波长移动速度:紫外、可见区:约18000nm/min近红外区:约70000nm/min;波长扫描速度:紫外、可见区:约4500nm/min近红外PMT/InGaAs区:约9000nm/min近红外PbS区:约4000nm/min(各种切换所需时间除外)
★2、杂散光:0.00008%以下(220nm,Nal)
0.00005%以下(340nm,NaNO2)
0.0005%以下(1420nm,H2O)
0.005%以下(2365nm,CHCl3)"
★3、噪音0.00005AbsRMS(500nm)
0.00008Abs以下(900nm)
0.00003Abs以下(1500nm)狭缝2nm,1秒响应时的RMS值
★4、基线平直度±0.004Abs(185-200nm)
±0.001Abs(200-3000nm)
±0.005Abs(3000-3300nm)
★5、检测器紫外、可见区:光电倍增管R-928
近红外区:InGaAs光电二极管和冷却型PbS光电导原件
★6、积分球,BaSO4涂层,标配PMT/InGaAs/PbS三检测器,内径150mm,200-2500nm
其余详见采购文件。
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