长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目(第十三批)国际招标公告(1)0668-1740H0100036/79
长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目(第十三批)国际招标公告(1)0668-1740H0100036/79
招标编号:0668-1740H*******/79
湖北省成套招标股份有限公司受招标人委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标,于2017-09-27在中国国际招标网公告。本次招标采用传统招标方式,现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况:长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目(第十三批)
资金到位或资金来源落实情况:已落实
项目已具备招标条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目编号:0668-1740H*******/79
招标项目名称:长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目(第十三批)
项目实施地点:中国湖北省
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
21 | 立式常压氧化设备 | 1 | 详见文件 | |
22 | 非晶硅低压化学气相沉积设备 | 3 | 详见文件 | |
23 | 多晶硅立式低压化学气相沉积设备 | 2 | 详见文件 | |
24 | 高介电常数氧化铝原子层沉积设备 | 2 | 详见文件 | |
25 | 低温氧化硅原子层沉积设备 | 2 | 详见文件 | |
26 | 立式栅极氧化硅生长设备 | 2 | 详见文件 | |
27 | 立式栅极氧化硅生长设备(后段) | 2 | 详见文件 | |
28 | 批处理式各向同性氧化设备 | 2 | 详见文件 | |
29 | 立式高温退火设备 | 5 | 详见文件 | |
30 | 高温氧化硅立式低压化学气相沉积设备(前段) | 2 | 详见文件 | |
31 | 高温氧化硅立式低压化学气相沉积设备(后段) | 2 | 详见文件 | |
32 | TEOS立式低压化学气相沉积设备 | 2 | 详见文件 | |
33 | 多腔体氧化硅原子层沉积设备 | 2 | 详见文件 | |
34 | 沟道填充氧化硅原子层沉积设备 | 2 | 详见文件 | |
35 | 氮化硅原子层沉积设备 | 3 | 详见文件 | |
36 | 氮氧化硅原子层沉积设备 | 2 | 详见文件 | |
37 | Cell区氮化硅立式低压化学气相沉积设备 | 2 | 详见文件 | |
38 | 氮化硅立式低压化学气相沉积设备 | 2 | 详见文件 | |
39 | 非晶硅掩膜低压化学气相沉积设备 | 2 | 详见文件 | |
40 | 选择性外延干式预清洗设备 | 2 | 详见文件 | |
41 | 铜退火设备 | 2 | 详见文件 | |
42 | 聚酰亚胺固化设备 | 2 | 详见文件 | |
43 | 立式合金化设备 | 2 | 详见文件 | |
75 | 选择性硅外延生长设备 | 2 | 详见文件 | |
76 | 原位蒸汽氧化膜生长设备 | 2 | 详见文件 | |
77 | 等离子体氮化设备 | 2 | 详见文件 | |
78 | 快速热退火设备 | 4 | 详见文件 | |
79 | 高束流离子注入机 | 4 | 详见文件 | |
80 | 高能量离子注入机 | 2 | 详见文件 | |
81 | 中束流离子注入机 | 2 | 详见文件 |
招标
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