哈尔滨工业大学招标采购办公室受用户的委托，拟就多功能多元有机、无机复合薄膜镀膜设备项目进行国内公开招标。欢迎具有此项供货能力、资信良好的国内外制造商在境内的办事机构及代理商前来投标。
　　一、项目名称：多功能多元有机、无机复合薄膜镀膜设备
　　二、招标编号：HITZB-329
　　三、主要技术指标：
　　该系统由有机分子束外延室、无机镀膜室、磁控溅射室和样品引进四个室组成。该系统可在高真空条件下对基片进行预处理，包括基片等离子清洗、基片烘烤，在基片上实现有机、无机多层复合薄膜的生长。
　　1. 有机分子束外延室：系统极限真空6.6×10-5Pa；系统漏率，停泵关机12小时后真空度≤5Pa；可旋转基片Ф75mm，转速5－60转∕分，加热控温800℃；有机分子束源炉3套，加热控温600℃。
　　2. 无机镀膜室：系统极限真空可达6.6×10-5Pa；基片Ф75mm，可旋转，步进电机驱动，转速5～60转∕分，连续可调，可对基片加热控温800℃，连续可调，蒸发电极3根，形成2组蒸发源。
　　3. 磁控溅射系统：系统极限真空可达6.6×10-5Pa；三个永磁靶和一个强磁靶，靶直径均为Φ60mm，水冷，靶与基片距离为120～100mm连续可调；永磁靶RF、DC兼容。基片安放在加热炉上，可加负偏压（-200V）；样品加热温度：室温～400℃，加热控温采用日本进口温度控制器。
　　4. 样品引进与预处理系统：样品清洗用直流放电电极和直流电源；直流电源电压3000V；导轨车可携带基片手动分别进入或退出有机蒸镀室、无机蒸镀室、磁控溅射室。实现样片在真空状态下的交接、转运。移动距离约为500mm。
　　5. 计算机控制系统：包括计算机、软件、各种硬件接口。主要控制内容：有机分子束外延室的样品加热控温、旋转、挡板开闭，分子束源炉加热、控温、切换、挡板开闭，无机室的样品加热控温、旋转、挡板开闭，磁控溅射室的样品加热控温、旋转、挡板开闭、换靶等
　　6. 水冷却及水压报警系统：系统配有水冷却系统，用来对分子泵、磁控靶等进行冷却，在水路上安装有水压继电器，一旦缺水或水压不足，将进行报警并切断相应电源，以防止损坏设备。
　　各室均配备膜厚控制仪，能够实时监控单层或多层膜的厚度，并且能够通过计算机控制系统实现生长过程的自动控制。
　　四、投标商准入资格
　　(1) 具有在境内的独立法人资格以及相关资质证明文件。
　　(2) 具备政府采购法第二十二条的条件。
　　（3）有意参与投标的供应商在七日内（截止日期：2008年11月12日）与我办联系，以便于有效安排开标事宜。
　　（4）电话告知，并递交投标申请表以及营业执照、组织机构代码证、税务登记证等相关资质文件传真与我们。
　　五、报名办法
　　招标人：哈尔滨工业大学
　　招标人地址：哈尔滨市南岗区西大直街92号
　　哈尔滨工业大学行政办公楼207室招标采购办公室
　　招标联系人：张立 联系电话（传真）：0451－********
　　技术联系人：裴延波 联系电话：****-******** 139*****397
　　邮政编码：150001
　　哈尔滨工业大学招标采购办公室
　　2008年11月5日

附件: 投标申请表