去光阻清洗机招标公告
去光阻清洗机招标公告
苏美达国际技术贸易有限公司受招标人委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标,于2018-03-05在公告。本次招标采用传统招标方式,现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况:包1 全自动裂片机 11台 包2 陶瓷盘清洗机 4台 包3 甩干机 13台(套) 包4 Plasma清洗设备 12台 包5 RTA退火炉 2台 包6 自动曝光机 4台 包7 自动匀胶机 3台 包8 自动显影机 4台 包9 扩张机 2台 包10 自动裁膜机 1台 包11 激光划片机-双焦点 7台 包12 倒装测试机 8台(套) 包13 全自动刮边机 2台 包14 全自动单面化学机械抛光机 1台 包15 全自动上蜡机 2台 包16 全自动研磨机 3台 包17 全自动硬抛机 1台 包18 AOI芯片目检机 2台(套) 包19 晶圆自动翻转倒膜机 2台 包20 全自动分选机 8台 包21 SPM清洗机 1台(套) 包22 去光阻清洗机 1台(套) 包23 ITO BOE半自动蚀刻清洗机 1台(套) 包24 PSS缺陷及反射率检测设备 3台(套) 包25 光刻版自动清洗机 1台 包26 膜厚测试仪 1台(套)
资金到位或资金来源落实情况:已落实
项目已具备招标条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目编号:0664-1840SUMECA62/22
招标项目名称:去光阻清洗机
项目实施地点:中国安徽省
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 全自动裂片机 | 11台 | 设备产能:≥7片/小时(4英寸7Mil×9Mil,隐切工艺); | |
2 | 陶瓷盘清洗机 | 4台 | 一次清洗盘数≧3盘 | |
3 | 甩干机 | 13台(套) | 晶圆尺寸:适用于4/6 inch | |
4 | Plasma清洗设备 | 12台 | 制程温度: <70℃(5 min) | |
5 | RTA退火炉 | 2台 | 产品尺寸: 4吋、6寸产品及碎片 | |
6 | 自动曝光机 | 4台 | 预对准精度:精度≤50μm。 | |
7 | 自动匀胶机 | 3台 | 晶圆尺寸:适用于4 /6inch且4 /6inch兼容生产,切换生产无需硬件调试。 | |
8 | 自动显影机 | 4台 | 具备DIW清洗功能及洗背功能,且晶片清洗洁净程度必须满足工艺要求 | |
9 | 扩张机 | 2台 | 扩膜倍数范围:1~1.5倍圆度; | |
10 | 自动裁膜机 | 1台 | 单边切割斜裂宽度小于6um; | |
11 | 激光划片机-双焦点 | 7台 | 单边切割斜裂宽度小于6um; | |
12 | 倒装测试机 | 8台(套) | 带自动清针功能,自动校准功能 | |
13 | 全自动刮边机 | 2台 | 探头测厚精度±3(um) | |
14 | 全自动单面化学机械抛光机 | 1台 | 设备产能: 月产能 ≥49000 | |
15 | 全自动上蜡机 | 2台 | 一次加工片数2"≥12片, 4"≥5片 | |
16 | 全自动研磨机 | 3台 | 研磨作业时间<25min | |
17 | 全自动硬抛机 | 1台 | 一次加工片数2"≥12片, 4"≥5片 | |
18 | AOI芯片目检机 | 2台(套) | 可加工wafer 尺寸:2-4寸wafer,6寸产品可进行升级; | |
19 | 晶圆自动翻转倒膜机 | 2台 | 可生产单颗晶粒尺寸大小:101.6μm *127μm~1524μm *1524μm; | |
20 | 全自动分选机 | 8台 | 扫描判别率: 99.95%(误判率<0.05%); | |
21 | SPM清洗机 | 1台(套) | 节水功能:节水30%以上 | |
22 | 去光阻清洗机 | 1台(套) | 温控保护:三道保护装置 | |
23 | ITO BOE半自动蚀刻清洗机 | 1台(套) | 节水模式:节水30%以上 | |
24 | PSS缺陷及反射率检测设备 | 3台(套) | 稼动率(1年内):大于95% | |
25 | 光刻版自动清洗机 | 1台 | 产能:≥40PC/H | |
26 | 膜厚测试仪 | 1台(套) | 设备验收合格后一季度内运行稼动率需大于95% |
招标
|
苏美达国际技术贸易有限公司 关注我们可获得更多采购需求 |
关注 |
最近搜索
无
热门搜索
无