阵列干法刻蚀机招标公告
阵列干法刻蚀机招标公告
中国电子进出口有限公司受招标人委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标,于2018-06-15在公告。本次招标采用传统招标方式,现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况:武汉京东方光电科技有限公司武汉高世代薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)生产线项目
资金到位或资金来源落实情况:资金已到位
项目已具备招标条件的说明:已具备招标条件
2、招标内容
招标项目编号:0714-174BOEWH0001/08
招标项目名称:武汉京东方光电科技有限公司武汉高世代薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)生产线项目
项目实施地点:中国湖北省
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
0714-174BOEWH0001/04 | 阵列磁控溅射机 | 14台 | 设备用途及基本要求:本设备主要用于TFT LCD行业中 Sputter薄膜沉积。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | RMB30000/USD4850 |
0714-174BOEWH0001/05 | 彩膜磁控溅射机 | 2台 | 设备用途及基本要求:本设备主要用于【G10.5彩膜基板上ITO薄膜溅镀工艺】。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | RMB25000/USD4050 |
0714-174BOEWH0001/06 | 等离子体增强化学气相沉积装置 | 16台 | 设备用途及基本要求:本设备主要用于TFT LCD领域等离子体增强化学气相沉积装置来进行薄膜沉积,传送系统能够适用0.4t~0.7t 玻璃。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | RMB30000/USD4850 |
0714-174BOEWH0001/07 | 阵列干法刻蚀机 | 15台 | 设备用途及基本要求:本设备主要用于TFT LCD 的Dry Etch System for Etching Pattern。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | RMB30000/USD4850 |
0714-174BOEWH0001/08 | 阵列干法刻蚀机 | 7台 | 设备用途及基本要求:本设备主要用于TFT LCD 的Dry Etch System for Etching Pattern。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | RMB25000/USD4050 |
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