天津大学-竞价公告(CB100562018000940)
天津大学-竞价公告(CB100562018000940)
| 基本信息： | |
| 申购单主题： | 等离子去胶机 |
| 申购单类型： | 竞价类 |
| 设备类别： | 仪器仪表 |
| 使用币种： | 人民币 |
| 竞价开始时间： | 2018-08-03 11:16 |
| 竞价结束时间： | 2018-08-08 00:00 我要报价 |
| 申购备注： | ********06 |
| 申购设备详情： |
| 设备名称 | 数量 | 单位 | 品牌 | 型号 | 是否标配 | 售后服务 | 规格配置 | 附件 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 等离子去胶机 | 1 | IPC 3000S改 | IPC 3000S改 | 是 | 按行业标准提供服务 | 1.控制器：专用工控主机。2.系统软件：PC高级控制软件。3.工艺过程全自动控制。4.系统带测温热电偶，实时测量温度并显示在软件界面内。5.*工艺腔体带进回气分气筛装置，更充分均匀腔内填充气体，确保进、排气口均匀分布。6.系统配备压力控制单元，能够实现腔内压力实时测量及控制；压力控制参数由软件菜单设定。7.工艺气体：2路工艺（2 SLPM O2 ＆ 1SLPM N2,MFC控制），一路PURGE N2。8.*RF射率源（固体模块式射频源），13.56 MHz，RF功率：1000W（功率连续可调，工作范围10％~90％满量程之间）、全新Antorr GM-1000W RF射频源连匹配器。9.*系统极限真空度小于50mTorr,漏率小于50mTorr/min、全新真空泵（Leybold D40C极限真空20mTorr）。10.*去胶,扫底膜样片尺寸：2~6英寸。11.去胶机功能：固化光刻胶去除、去除基片残胶、扫底膜工艺。12.*去胶速率：600~1000A/Min，去胶面内均一性≤15％，片间均一性≤15％。13.*打底速率：≤400A/Min，打底面内均一性≤10％，片间均一性≤10％。14.工艺程序编写：GUI图形界面，简单、直观、方便。15.数据存取：工艺数据存于工控机硬盘，方便存档及随时查看。16.状态检测：软件实时检测。17.故障分析：软件暴露所有输入/输出(I/O)部件状态，极大方便设备故障检查、分析及维修。18.*A/D、D/A精度:16位A/D、14位D/A，大大提高设备测量精度及控制水平。19.设备配有4英寸石英舟片架、4英寸石英舟配套鼠笼20.设备尺寸：850mmX920mmX440mm、重量：81KG21.国内有完善的售后服务团队定期巡访、1年质保期、24h响应客户服务需求 | 无 |
标签: 大学
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