云南大学-竞价公告(CB106732018000241)
云南大学-竞价公告(CB106732018000241)
基本信息: | |
申购单主题: | 脉冲激光沉积系统 |
申购单类型: | 竞价类 |
设备类别: | 机电设备 |
使用币种: | 人民币 |
竞价开始时间: | 2018-10-31 16:02 |
竞价结束时间: | 2018-11-07 16:05 我要报价 |
申购备注: | |
申购设备详情: |
设备名称 | 数量 | 单位 | 品牌 | 型号 | 是否标配 | 售后服务 | 规格配置 | 附件 |
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脉冲激光沉积系统 | 1 | 台 | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 | 脉冲激光沉积系统 | 是 | 公司负责安装调试。现场验收合格后,二十四个月内免费维修正常使用出现的故障(包括零件更换),非常故障维修只核收工本费,终身维修只核收工本费,售后量小时响应,三天到场维修。 | 沉积室极限真空度:≤8.0x10-7 Pa(6.0×10-9torr) (经烘烤除气后,分子泵单独抽气);系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,20分钟可达到5x10-3 Pa;系统主要由沉积真空室、进样室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成;1.溅射真空室组件1套球型真空室尺寸Ф450mm,选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面进行特殊工艺抛光处理,接口采用金属垫圈密封,预留与MBE、LMBE、STM、进样室、离子源、RHEED接口。2.旋转靶台组件1套 每次可以装6块靶材,靶材尺寸:Φ25mm;每块靶材可实现自转,转速5~20转/分,连续可调,由电机驱动磁力耦合机构控制;靶位公转换位机构,由电机驱动磁耦合机构控制;靶材屏蔽罩将6块靶材屏蔽,每次只有1个靶材露出溅射成膜,以避免靶材之间的交叉污染;3.抗氧化基片加热台组件1套 基片尺寸:可放置φ2″基片;加热炉加热最高温度 1000℃±1℃,采用铂铑抗氧化加热丝(客户另购),由热电偶闭环反馈控制。基片可连续回转,转速5~20转/分,电机驱动磁耦合机构控制;基片与靶台之间距离30~90mm可调,由腔外手控盒电动波纹管调节机构控制;PLC控制样品挡板组件:1套;样品托:2个;4.窗口及法兰接口部件1套5.激光束扫描控制系统1套通过PLC控制样品台摆动实现控制;6.工作气路1路100SCCM质量流量控制器、充气阀CF16、管路、接头等:1路充气阀CF16、管路、接头等:1路(解除真空充氮气);7.抽气机组及阀门、管道1套沉积室进口分子泵及变频控制电源:1台(Hipace700,德国普发)(客户另购);VRD30直联机械泵:1台(抽速8升/秒,浙江飞越);KF40电磁压差阀:1台(上海);分子泵与机械泵软联接金属软管:2套 ;机械泵与真空室之间的旁抽管路、KF40电磁隔断阀及角阀CF35:1套 ;分子泵与真空室之间的旁抽管路及角阀CF35:1套 ;CF150手动闸板阀:1台(用于分子泵与真空室隔离);CF100手动插板阀阀:1台(用于进样室与PLD真空室隔离);8.脉冲激光沉积预留与MBE/LMBE传输样品接口 | 无 |
标签: 大学
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